[发明专利]基板处理装置和基板处理方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，其中，

该基板处理装置包括：

液处理槽，其贮存处理液，将多个基板浸渍在所述处理液中，从而对所述多个基板进行液处理；以及

疏水化气体供给部，其用于向所述液处理后的所述多个基板供给疏水化剂的气体。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

该基板处理装置还包括：

干燥处理槽，其配置于所述液处理槽的上部，用于对所述多个基板进行干燥处理；以及

移动机构，其用于将所述多个基板自所述液处理槽拉起并使其向所述干燥处理槽移动，

所述疏水化气体供给部用于向所述干燥处理槽的内部供给所述疏水化剂的气体。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，

该基板处理装置还包括有机溶剂供给部，该有机溶剂供给部用于向所述干燥处理槽的内部供给有机溶剂的蒸气。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的基板处理装置，其中，

该基板处理装置包括处理液供给部，该处理液供给部用于向所述液处理槽供给所述处理液，

所述处理液供给部包括有机溶剂供给系统，该有机溶剂供给系统用于供给有机溶剂。

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其中，

所述处理液供给部还包括水供给系统，该水供给系统用于供给水。

6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其中，

所述处理液供给部还包括喷出部，该喷出部配置于所述液处理槽的内部，连接于所述有机溶剂供给系统和所述水供给系统。

7.根据权利要求5所述的基板处理装置，其中，

所述处理液供给部包括：

有机溶剂喷出部，其连接于所述有机溶剂供给系统，用于将所述有机溶剂向所述液处理槽的内部喷出；以及

水喷出部，其连接于所述水供给系统，用于将所述水向所述液处理槽的内部喷出。

8.根据权利要求7所述的基板处理装置，其中，

所述有机溶剂喷出部配置为比所述水喷出部靠上方，用于将所述有机溶剂朝向所述液处理槽的内部呈喷淋状喷出。

9.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

该基板处理装置包括处理液供给部，该处理液供给部用于向所述液处理槽供给所述处理液，

所述处理液供给部包括：

药液供给系统，其用于供给在对所述多个基板进行的药液处理中使用的药液；以及

疏水化液供给系统，其用于供给所述疏水化剂的液体。

10.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

该基板处理装置包括处理液供给部，该处理液供给部用于向所述液处理槽供给所述处理液，

所述处理液供给部包括：

水供给系统，其用于供给在对所述多个基板进行的冲洗处理中使用的水；以及

疏水化液供给系统，其用于供给所述疏水化剂的液体。

11.根据权利要求10所述的基板处理装置，其中，

所述处理液供给部还包括有机溶剂供给系统，该有机溶剂供给系统用于供给有机溶剂。