[发明专利]防止发生褶皱的铜箔、包括该铜箔的电极、包括该电极的二次电池以及其制造方法在审
申请号: | 202080041738.6 | 申请日: | 2020-11-13 |
公开(公告)号: | CN113924669A | 公开(公告)日: | 2022-01-11 |
发明(设计)人: | 金善花;李颜娜;金昇玟 | 申请(专利权)人: | SK纳力世有限公司 |
主分类号: | H01M4/66 | 分类号: | H01M4/66;H01M10/0525;C25D1/04 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 崔炳哲 |
地址: | 韩国全*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 防止 发生 褶皱 铜箔 包括 电极 二次 电池 及其 制造 方法 | ||
1.一种铜箔,其中,包括:
铜层,具有毛面和光面;以及
防锈膜,配置在所述铜层上,
所述铜箔以绝对值为基准具有0.5至25Mpa的残余应力,
所述铜层包含铜和碳C,
在所述铜层中,所述碳C的含量为2至20ppm,
所述铜层具有包含结晶质粒子的(111)面、(200)面、(220)面以及(311)面,
所述(220)面的衍射强度在所述(111)面、所述(200)面、所述(220)面以及所述(311)面的衍射强度之和中所占的比率为10至40%,
在常温所述(220)面的所述结晶质粒子具有70至120nm的平均粒子尺寸。
2.根据权利要求1所述的铜箔,其中,
所述残余应力是对所述(111)面、所述(200)面、所述(220)面以及所述(311)面中的至少一个面进行测定的。
3.根据权利要求1所述的铜箔,其中,
所述残余应力是对所述(200)面进行测定的。
4.根据权利要求1所述的铜箔,其中,
在130℃热处理30分钟后具有2至20%的延伸率。
5.根据权利要求1所述的铜箔,其中,
具有所述毛面方向的第一面和所述光面方向的第二面,
所述第一面和所述第二面的表面粗糙度Ra之差为0.5μm以下。
6.根据权利要求1所述的铜箔,其中,
具有所述毛面方向的第一面和所述光面方向的第二面,
所述第一面和所述第二面的表面粗糙度Rz JIS之差为0.5μm以下。
7.根据权利要求1所述的铜箔,其中,
具有2至20μm的厚度。
8.根据权利要求1所述的铜箔,其中,
所述防锈膜包含铬、硅烷化合物以及氮化合物中的至少一种。
9.一种二次电池用电极,其中,包括:
铜箔;以及
活性物质层,配置在所述铜箔的至少一面,
所述铜箔是权利要求1至8中的任一项所述的铜箔。
10.一种二次电池,其中,包括:
正极;
负极,与所述正极相对配置;
电解质,配置在所述正极和所述负极之间,提供能够使锂离子移动的环境;以及
分隔膜,使所述正极和所述负极电绝缘,
所述负极包括:
权利要求1至8中的任一项所述的铜箔;以及
活性物质层,配置在所述铜箔上。
11.一种铜箔的制造方法,其中,包括:
制备包含铜离子的电解液的步骤;以及
以30至70ASD(A/dm2)的电流密度使在所述电解液中以彼此隔开的方式配置的阳极板和旋转阴极滚筒通电而形成铜层的步骤,
所述电解液包含:
70至100g/L的铜离子;
70至150g/L的硫酸;
1至45ppm的氯Cl;
0.6g/L以下的砷As离子;
0.01至0.1ml/L的过氧化氢;以及
有机添加剂,
所述有机添加剂包括光泽剂(成分A)、减速剂(成分B)、平整剂(成分C)以及粗糙度调节剂(成分D)中的至少一种,
所述光泽剂(成分A)包含磺酸或其金属盐,
所述减速剂(成分B)包含非离子型水溶性高分子,
所述平整剂(成分C)包含氮N和硫S中的至少一种,
所述粗糙度调节剂(成分D)包含含氮杂环季铵盐或其衍生物。
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