[发明专利]真空处理装置

权利要求书

1.一种对被处理基板的处理面实施规定的真空处理的真空处理装置，具有：

真空室，其设置有被处理基板，以处理面所朝的方向为上方，在上壁形成有朝向处理面的安装开口；

处理单元，其用于实施真空处理；以及

连通管，其设置于真空室和处理单元之间，具有规定长度；

该真空处理装置构成为经连通管对真空气氛的真空室内的被处理基板实施规定的真空处理；

其特征在于，处理单元上连接有绕与上下方向正交并延伸的旋转轴摆动的转动臂，还具有将真空室和连通管或处理单元和连通管有选择地锁合的锁合装置。

2.根据权利要求1所述的真空处理装置，其特征在于：

所述锁合装置采用紧固块和紧固件构成，所述紧固块突出设置在所述处理单元、所述真空室以及所述连通管的外表面上，且在将处理单元经所述连通管安装到所述真空室上的状态下在上下方向彼此相对，所述紧固件紧固彼此相对的各紧固块。

3.根据权利要求1或2所述的真空处理装置，其特征在于：

以通过所述旋转臂朝所述真空室摆动所述处理单元的方向为目的摆动方向，半球形突起位于该目的摆动方向侧并设置在所述真空室和所述连通管中的任意一方上，并且在所述真空室和所述连通管中的任意另一方上形成接收突起的接收凹部。