[发明专利]二氟乙烯的制造方法在审
申请号: | 202080042926.0 | 申请日: | 2020-06-10 |
公开(公告)号: | CN113993830A | 公开(公告)日: | 2022-01-28 |
发明(设计)人: | 高桥一博;山本治 | 申请(专利权)人: | 大金工业株式会社 |
主分类号: | C07C21/18 | 分类号: | C07C21/18;C07C17/358 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;张岑尧 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 乙烯 制造 方法 | ||
1.一种HFO-1132(E)和/或HFO-1132(Z)的制造方法,其特征在于,包括如下工序:
向反应器中供给含有反式-1,2-二氟乙烯(HFO-1132(E))和/或顺式-1,2-二氟乙烯(HFO-1132(Z))的组合物,照射具有10nm以上400nm以下的波长的光,进行HFO-1132(E)与HFO-1132(Z)之间的异构化反应的工序。
2.一种HFO-1132(E)的制造方法,其特征在于,包括如下工序:
向反应器中供给HFO-1132(Z)或含有HFO-1132(E)和HFO-1132(Z)的组合物,照射具有10nm以上400nm以下的波长的光,进行HFO-1132(E)与HFO-1132(Z)之间的异构化反应的工序。
3.如权利要求1或2所述的制造方法,其特征在于:
在气相中进行所述异构化反应。
4.如权利要求1~3中任一项所述的制造方法,其特征在于:
包括在所述异构化反应后,通过蒸馏,分离成HFO-1132(E)和HFO-1132(Z)的分离工序。
5.如权利要求4所述的制造方法,其特征在于:
包括在所述分离工序之后,将HFO-1132(Z)重返所述异构化反应,再次供于异构化反应的工序。
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