[发明专利]背面研磨带在审
申请号: | 202080045154.6 | 申请日: | 2020-08-17 |
公开(公告)号: | CN113993663A | 公开(公告)日: | 2022-01-28 |
发明(设计)人: | 池谷达宏;中西健一 | 申请(专利权)人: | 昭和电工株式会社 |
主分类号: | B24D11/00 | 分类号: | B24D11/00;B24D11/02 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 曾祯;段承恩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 背面 研磨 | ||
1.一种背面研磨带,其特征在于,是具有片状的基材、和在所述基材的一面形成的粘着剂层的背面研磨带,
所述粘着剂层由粘着剂组合物的固化物形成,厚度为50~500μm,
所述粘着剂组合物包含聚氨酯(A)、(甲基)丙烯酸酯单体(B)、链转移剂(C)、光聚合引发剂(D)和离子液体(E),
所述聚氨酯(A)包含聚氨酯(a1),
所述聚氨酯(a1)具有包含来源于聚氧亚烷基多元醇的结构和来源于多异氰酸酯的结构的骨架,且在多个末端具有(甲基)丙烯酰基,
所述粘着剂组合物含有离子液体(E)0.4~6质量%。
2.根据权利要求1所述的背面研磨带,所述粘着剂层为单层结构。
3.根据权利要求1或2所述的背面研磨带,所述(甲基)丙烯酸酯单体(B)含有单官能(甲基)丙烯酸酯和多官能(甲基)丙烯酸酯。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的背面研磨带,所述离子液体(E)为包含选自季铵离子、亚胺离子和锍离子中的有机阳离子的化合物。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的背面研磨带,所述离子液体(E)为包含含氟有机阴离子的化合物。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的背面研磨带,所述离子液体(E)为包含
1-乙基-3-甲基咪唑阳离子和/或4-甲基-1-辛基吡啶阳离子、和双(氟磺酰)酰亚胺阴离子即(FSO2)2N-的化合物。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的背面研磨带,所述链转移剂(C)为多官能硫醇。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的背面研磨带,所述粘着剂层的凝胶分率为50~65质量%。
9.根据权利要求1~8中任一项所述的背面研磨带,所述粘着剂层的表面电阻率小于1×1011Ω/□。
10.根据权利要求3~9中任一项所述的背面研磨带,在将所述(甲基)丙烯酸酯单体(B)的合计设为100摩尔%时,含有所述单官能(甲基)丙烯酸酯85~99摩尔%、所述多官能(甲基)丙烯酸酯1~15摩尔%。
11.根据权利要求1~10中任一项所述的背面研磨带,所述粘着剂组合物包含:
所述聚氨酯(A)20~50质量%,
所述(甲基)丙烯酸酯单体(B)35~79质量%,
所述链转移剂(C)0.5~8.0质量%,
所述光聚合引发剂(D)0.01~5.0质量%,
所述离子液体(E)0.4~6.0质量%。
12.根据权利要求1~11中任一项所述的背面研磨带,所述粘着剂组合物进一步含有脂肪酸酯(F)。
13.根据权利要求1~12中任一项所述的背面研磨带,所述离子液体(E)由熔点为100℃以下的有机盐化合物形成,
所述有机盐化合物中组合了有机阳离子与无机阴离子,或者组合了有机阳离子与有机阴离子。
14.根据权利要求1~13中任一项所述的背面研磨带,所述聚氨酯(A)仅由所述聚氨酯(a1)构成,
所述聚氨酯(a1)在全部末端包含(甲基)丙烯酰氧基。
15.根据权利要求1~14中任一项所述的背面研磨带,其具有直接设置在所述粘着剂层的与所述基材相反侧的表面的、透明的隔离物,
所述粘着剂组合物中的溶剂的含量为0~1.0质量%,
所述粘着剂层为通过隔着所述隔离物向所述粘着剂组合物照射紫外线从而光固化而得的固化物层。
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