[发明专利]前驱体供应柜有效
申请号: | 202080045932.1 | 申请日: | 2020-04-24 |
公开(公告)号: | CN114072538B | 公开(公告)日: | 2023-08-22 |
发明(设计)人: | P·索恩宁;J·韦斯林;M·马里拉 | 申请(专利权)人: | 青岛四方思锐智能技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;F17C13/08 |
代理公司: | 北京市竞天公诚律师事务所 11770 | 代理人: | 徐民 |
地址: | 266000 山东省青岛市中国(山东)自由贸易试验区*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 前驱 供应 | ||
1.一种用于容纳一个或多个前驱体容器(80)的前驱体供应柜(2),所述前驱体供应柜(2)具有限定内部柜空间(1)的柜壁(3、4、6、7、8、9),其特征在于,所述前驱体供应柜(2)包括:
-通气排出连接件(20、21、22),所述通气排出连接件(20、21、22)布置成将通气气体从所述前驱体供应柜(2)的所述内部柜空间(1)排出;
-一个或多个通气入口连接件(10、11),所述一个或多个通气入口连接件(10、11)布置成将通气气体提供到所述前驱体供应柜(2)的所述内部柜空间(1)中;
-用于容纳前驱体容器(80)的两个或更多个单独的气密式前驱体供应腔室(30),所述两个或更多个气密式前驱体供应腔室(30)布置在所述前驱体供应柜(2)的所述内部柜空间(1)内部,使得所述前驱体供应柜(2)的包围所述两个或更多个单独的气密式前驱体供应腔室(30)的所述内部柜空间(1)是通气的,两个或更多个单独的气密式前驱体供应腔室(30)在所述前驱体供应柜(2)的所述内部柜空间(1)内部布置成彼此间隔开,使得在所述两个或更多个单独的气密式前驱体供应腔室(30)之间设置一个或多个流动间隙(A、B)。
2.根据权利要求1所述的前驱体供应柜(2),其特征在于,所述前驱体供应柜(2)包括两个或更多个单独的气密式前驱体供应腔室(30),并且:
-所述两个或更多个单独的气密式前驱体供应腔室(30)中的至少两者在所述前驱体供应柜(2)的所述内部柜空间(1)内部布置成彼此相邻并且彼此相距第一距离,使得在相邻的所述气密式前驱体供应腔室(30)之间形成第一流动间隙(A);或者
-所述两个或更多个单独的气密式前驱体供应腔室(30)中的至少两者在所述前驱体供应柜(2)的所述内部柜空间(1)内部布置成一个位于另一个的顶部上方并且彼此相距第二距离,使得在相邻的所述气密式前驱体供应腔室(30)之间形成第二流动间隙(B);或者
-所述两个或更多个单独的气密式前驱体供应腔室(30)中的至少两者在所述前驱体供应柜(2)的所述内部柜空间(1)内部布置成彼此相邻并且彼此相距第一距离,使得在相邻的所述气密式前驱体供应腔室(30)之间形成第一流动间隙(A),并且所述两个或更多个单独的气密式前驱体供应腔室(30)中的至少两者在所述前驱体供应柜(2)的所述内部柜空间(1)内部布置成一个位于另一个的顶部上方并且彼此相距第二距离,使得在相邻的所述气密式前驱体供应腔室(30)之间形成第二流动间隙(B)。
3.根据权利要求1所述的前驱体供应柜(2),其特征在于:
-所述两个或更多个单独的气密式前驱体供应腔室(30)在所述前驱体供应柜(2)的所述内部柜空间(1)内部布置成与所述柜壁(3、4、6、7、8、9)间隔开,使得在所述两个或更多个单独的气密式前驱体供应腔室(30)和所述柜壁(3、4、6、7、8、9)之间设置流动间隙(C、D、E、F、G、H)。
4.根据权利要求1所述的前驱体供应柜(2),其特征在于,所述通气排出连接件(20、21、22)包括:
-通气出口(20、21),所述通气出口(20、21)设置至所述柜壁(3、4、6、7、8、9)并且与所述前驱体供应柜(2)的所述内部柜空间(1)相通;以及
-抽吸装置(22),所述抽吸装置(22)连接到所述通气出口(20、21)并且布置成将通气气体经由所述通气出口(20)从所述前驱体供应柜(2)的所述内部柜空间(1)排出。
5.根据权利要求4所述的前驱体供应柜(2),其特征在于,所述前驱体供应柜(2)包括顶部柜壁(6),并且所述通气出口(20、21)设置至所述顶部柜壁(6)。
6.根据权利要求1所述的前驱体供应柜(2),其特征在于,所述一个或多个通气入口连接件(10、11)包括通气入口(10),所述通气入口(10)与所述前驱体供应柜(2)的所述内部柜空间(1)相通并且布置成将通气气体提供到所述前驱体供应柜(100)的所述内部柜空间(1)中。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
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