[发明专利]断口分析装置和断口分析方法在审
| 申请号： | 202080046983.6 | 申请日： | 2020-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN114026597A | 公开（公告）日： | 2022-02-08 |
| 发明（设计）人： | 矶崎洋平;植木洋辅 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号： | G06T7/00 | 分类号： | G06T7/00;G01N23/2251 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;牛孝灵 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 断口 分析 装置 方法 | ||
1.一种断口分析装置，其特征在于：
包括微观区域观察部，所述微观区域观察部包括：
第一单元，其针对被分析物的由微观区域的摄像单元得到的第一观察像，计算破坏模式的准确度；
第二单元，其计算能够提高所述破坏模式的准确度的观察条件；和
第三单元，其调节所述微观区域的摄像单元的拍摄条件，
将所述破坏模式的准确度和能够提高所述破坏模式的准确度的观察条件输出至可视化单元。
2.如权利要求1所述的断口分析装置，其特征在于：
所述第一单元包括对所述第一观察像与破坏模式的关系进行过学习的第一神经网络。
3.如权利要求1或2所述的断口分析装置，其特征在于：
将能够提高所述破坏模式的准确度的观察条件，表示为所述第三单元中的调节内容。
4.如权利要求1～3中任意一项所述的断口分析装置，其特征在于：
所述破坏模式的准确度表示为该位置处的准确度，或者表示为与能够提高所述破坏模式的准确度的观察条件下的准确度的差。
5.一种断口分析方法，其特征在于：
针对被分析物的由微观区域的摄像单元得到的第一观察像，计算破坏模式的准确度，计算能够提高所述破坏模式的准确度的观察条件，调节所述微观区域的摄像单元的拍摄条件，并显示所述破坏模式的准确度和能够提高所述破坏模式的准确度的观察条件，
其中，对拍摄位置不同的多个所述第一观察像求取所述破坏模式的准确度，将准确度更高的一侧的拍摄位置表示为能够提高所述破坏模式的准确度的观察条件。
6.一种断口分析方法，其特征在于：
针对被分析物的由微观区域的摄像单元得到的第一观察像，计算破坏模式的准确度，计算能够提高所述破坏模式的准确度的观察条件，调节所述微观区域的摄像单元的拍摄条件，并显示所述破坏模式的准确度和能够提高所述破坏模式的准确度的观察条件，
将所述第一观察像分割为多个区域，对分割后的每个区域求取所述破坏模式的准确度，将准确度最高的分割区域的拍摄位置表示为能够提高所述破坏模式的准确度的观察条件。
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