[发明专利]断口分析装置和断口分析方法在审

专利信息
申请号: 202080046983.6 申请日: 2020-04-07
公开(公告)号: CN114026597A 公开(公告)日: 2022-02-08
发明(设计)人: 矶崎洋平;植木洋辅 申请(专利权)人: 株式会社日立制作所
主分类号: G06T7/00 分类号: G06T7/00;G01N23/2251
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳;牛孝灵
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 断口 分析 装置 方法
【说明书】:

本发明提供一种断口分析装置和断口分析方法,使得非熟练人员也能够实施与熟练人员同样的断口分析。其特征在于,包括微观区域观察部,该微观区域观察部包括:第一单元,其针对被分析物的由微观区域的摄像单元得到的第一观察像,计算破坏模式的准确度;第二单元,其计算能够提高破坏模式的准确度的观察条件;和第三单元,其调节微观区域的摄像单元的拍摄条件,并且,将破坏模式的准确度和能够提高破坏模式的准确度的观察条件输出至可视化单元。

技术领域

本发明涉及用于进行构件断口分析的断口分析装置和断口分析方法。

背景技术

断口分析是查明构件破坏原因的常用手段,在断口分析中,通过目视断口等进行宏观观察或利用电子显微镜进行微观观察,来确定断口的断裂原因、过程。断口分析能够捕捉出现于断裂面上的与破坏模式对应的特征性的形状和纹理。在宏观观察中,捕捉断口的形状和宏观的特征纹理来估计断口各部分的破坏模式以及确定断裂起点。在微观观察中,根据在断口各部分进行的与破坏模式对应的特征纹理的搜索,以及与到断裂起点的距离对应的断口特征纹理的变化,来确定破坏模式、详细估计破坏过程。另外,为了进行断口分析而取得的断口图像,既能够用于查明破坏过程,另一方面也能够用作向他人表示破坏原因的客观证据。

专利文献1公开了一种通过对观察到的断口的颜色深浅进行分析,来对断口的种类进行分类的方法、观察装置。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2018-77719号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

断口分析较大依赖于熟练人员基于隐性知识的判断,但近年来,随着熟练人员老龄化加深,对断口分析的辅助/自动化的需求正在逐渐提高。为了复现熟练人员进行的一系列断口观察过程,要求不仅能够根据微观的观察图像对破坏模式进行分类,还要能够基于宏观观察得到的断口各部分的破坏模式和断裂起点的估计结果,来决定微观观察中的观察位置。另外,在微观观察中,可认为熟练人员进行的操作是,搜索最明显表现出与破坏模式对应的特征纹理的部位,在调节了观察倍率等拍摄条件的基础上,取得适合用作表示破坏模式的证据的图像。因此可以认为,需要一种用于对拍摄位置、拍摄条件的优化进行辅助的技术。

但是,一直以来,几乎没人研究过用于实现微观观察像的拍摄条件优化的具体方法。

本发明是为了解决这样的问题而作出的。本发明提供一种断口分析装置和断口分析方法,通过对断口分析进行辅助,使得非熟练人员也能够实施与熟练人员同样的断口分析。

解决问题的技术手段

用于实现上述目的的本发明的断口分析装置,其特征在于,包括微观区域观察部,该微观区域观察部包括:第一单元,其针对被分析物的由微观区域的摄像单元得到的第一观察像,计算破坏模式的准确度;第二单元,其计算能够提高破坏模式的准确度的观察条件;和第三单元,其调节微观区域的摄像单元的拍摄条件,将破坏模式的准确度和能够提高破坏模式的准确度的观察条件输出至可视化单元。

本发明的断口分析方法其特征在于,针对被分析物的由微观区域的摄像单元得到的第一观察像,计算破坏模式的准确度,计算能够提高破坏模式的准确度的观察条件,调节微观区域的摄像单元的拍摄条件,并显示破坏模式的准确度和能够提高破坏模式的准确度的观察条件,其中,对拍摄位置不同的多个第一观察像求取破坏模式的准确度,将准确度更高的一侧的拍摄位置表示为能够提高破坏模式的准确度的观察条件。

本发明的断口分析方法其特征在于,针对被分析物的由微观区域的摄像单元得到的第一观察像,计算破坏模式的准确度,计算能够提高破坏模式的准确度的观察条件,调节微观区域的摄像单元的拍摄条件,并显示破坏模式的准确度和能够提高破坏模式的准确度的观察条件,将第一观察像分割为多个区域,对分割后的每个区域求取破坏模式的准确度,将准确度最高的分割区域的拍摄位置表示为能够提高破坏模式的准确度的观察条件。

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