[发明专利]涂布方法和涂布装置

权利要求书

1.一种涂布方法，是向基板供给处理液并通过旋涂法来在基板上涂布所述处理液的涂布方法，在所述涂布方法中，

在所述处理液的供给开始的同时或者晚于所述处理液的供给开始地将表面张力比所述处理液的表面张力小的所述处理液的溶剂与所述处理液混合地供给到所述基板，

在停止向所述基板供给所述处理液之前，结束向所述处理液混合所述溶剂。

2.根据权利要求1所述的涂布方法，其特征在于，

在从开始向所述处理液混合所述溶剂起至结束该混合为止的期间，连续地供给所述处理液。

3.根据权利要求1或2所述的涂布方法，其特征在于，

向所述处理液混合所述溶剂的混合时间是所述处理液的供给时间的1/2～2/3。

4.根据权利要求1或2所述的涂布方法，其特征在于，

所述溶剂相对于所述处理液的混合比例为所述处理液的3～50％。

5.根据权利要求1或2所述的涂布方法，其特征在于，

所述处理液是粘度为3cP～100cP的抗蚀液。

6.根据权利要求1或2所述的涂布方法，其特征在于，

所述溶剂是异丙醇或者挥发性比异丙醇的挥发性低的溶剂。

7.根据权利要求1或2所述的涂布方法，其特征在于，

所述溶剂是丙二醇单甲醚醋酸酯或甲基异丁基甲醇。

8.一种涂布方法，是向基板供给处理液并通过旋涂法来在基板上涂布所述处理液的涂布方法，在所述涂布方法中，

在所述处理液的供给开始的同时或者晚于所述处理液的供给开始地将表面张力比所述处理液的表面张力小的所述处理液的溶剂与所述处理液混合地供给到所述基板，

在从向所述处理液混合所述溶剂的期间的中间时间点起至该期间结束为止的期间，降低所述溶剂相对于所述处理液的混合比例。

9.一种涂布装置，构成为向基板供给处理液并通过旋涂法来在基板上涂布所述处理液，所述涂布装置具备：

旋转保持构件，其将所述基板以能够旋转的方式保持；

供给喷嘴，其对被所述旋转保持构件保持的所述基板供给所述处理液；以及

控制部，其控制所述涂布装置，以在所述处理液的供给开始的同时或者晚于所述处理液的供给开始地将表面张力比所述处理液的表面张力小的所述处理液的溶剂与所述处理液混合地供给到所述基板，

所述控制部构成为：控制所述涂布装置，以在保持从所述供给喷嘴对所述基板连续地供给所述处理液的状态下调整所述溶剂相对于所述处理液的混合比例，并且在包括所述处理液的供给停止时的处理液供给的后半时间段不向所述处理液混合所述溶剂。

10.一种涂布装置，构成为向基板供给处理液并通过旋涂法来在基板上涂布所述处理液，所述涂布装置具备：

旋转保持构件，其将所述基板以能够旋转的方式保持；

供给喷嘴，其对被所述旋转保持构件保持的所述基板供给所述处理液；以及

控制部，其控制所述涂布装置，以在所述处理液的供给开始的同时或者晚于所述处理液的供给开始地将表面张力比所述处理液的表面张力小的所述处理液的溶剂与所述处理液混合地供给到所述基板，

其中，在停止向所述基板供给所述处理液之前，结束向所述处理液混合所述溶剂。