[发明专利]量测方法和相关的计算机产品

权利要求书

1.一种方法，包括：

测量从量测目标反射的辐射，以及

将经测量的所述辐射以分量进行分解。

2.根据权利要求1所述的方法，其中分解经测量的所述辐射是利用经测量的所述辐射的傅立叶变换获得的。

3.一种测量光刻工艺的参数的方法，包括：

a)利用辐射照射量测目标，

b)检测来自所述目标的经散射的辐射，

c)改变量测设备的参数，

d)对所述量测设备的所述参数的多个值重复步骤a)至c)，以及

e)将所述辐射分解成分量。

4.根据权利要求3所述的方法，其中所述分解是傅立叶变换。

5.根据权利要求3所述的方法，其中所述方法还包括：选择小于阈值320的分量。

6.根据权利要求3所述的方法，其中套刻精度使用反向分解并仅利用所选择的分量来生成。

7.一种测量光刻工艺的参数的方法，包括：

a)利用辐射照射量测目标，

b)检测来自所述目标的经散射的辐射，

c)改变量测设备的参数，

d)对所述量测设备的所述参数的多个值重复步骤a)至c)，

e)将滤波器应用于在步骤d)中所获得的测量结果。

8.根据权利要求7所述的方法，其中在步骤d)中所获得的测量结果以单独的分量进行分解。

9.根据权利要求7所述的方法，其中滤波器320包括定义单独的分量的上限值和下限值。

10.根据权利要求7所述的方法，其中滤波器320包括定义分量的间隔的上限值和下限值。

11.根据权利要求7所述的方法，其中滤波器320被改变。