[发明专利]支撑件、振动隔离系统、光刻设备、物体测量设备、器件制造方法

说明书

本发明提供了一种支撑件(1)，包括：第一端部(2)和第二端部(3)，其中第二端部(3)在支撑件的纵向方向上位于与第一端部(2)相反的一侧上；线圈弹簧(4)，被布置在第一端部(2)和第二端部(3)之间，该线圈弹簧(4)包括：第一螺旋构件(5)，在支撑件(1)的圆周方向上在第一端部(2)和第二端部(3)之间延伸；以及第二螺旋构件(6)，在支撑件(1)的圆周方向上在第一端部(2)和第二端部(3)之间延伸，其中线圈弹簧的第一螺旋构件(5)和线圈弹簧(4)的第二螺旋构件(6)相对于彼此是可移动的，其中支撑件(1)还包括被附接到第一螺旋构件(5)的阻尼器装置(20)。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2019年8月5日提交的欧洲专利申请19190011.7和于2019年12月16日提交的欧洲专利申请19216580.1的优先权，并且其通过引用被整体并入本文中。

技术领域

本发明涉及系统、支撑件、振动隔离系统、光刻设备、物体测量设备、器件制造方法。

背景技术

光刻设备是被构造为将所需图案施加到衬底上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。例如，光刻设备可以将图案形成装置(例如，掩模)的图案(也经常称为“设计布局”或“设计”)投射到被设置在衬底(例如，晶片)上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。物体测量设备例如适用于测量和/或检查已被施加到物体(例如到衬底，例如到晶片)上的图案，和/或用于检查掩模。

随着半导体制造工艺的不断进步，电路元件的尺寸不断减小，而每个器件的功能元件(诸如晶体管)的数量在过去几十年内一直在稳步增加，遵循通常称为“摩尔定律”的趋势。为了跟上摩尔定律，半导体行业正在追逐能够创造出越来越小的特征的技术。为了在衬底上投射图案，光刻设备可以使用电磁辐射。这种辐射的波长决定了在衬底上被图案化的特征的最小尺寸。当前使用的典型波长为365nm(i-线)、248nm、193nm和13.5nm。与使用例如波长为193nm的辐射的光刻设备相比，使用具有在4nm到20nm范围内(例如6.7nm或13.5nm)的波长的极紫外(EUV)辐射的光刻设备可以用于在衬底上形成更小的特征。

在光刻工艺中，被投影在衬底上的图案高度精确是最重要的。衬底相对于投影系统的定位在实现所需的图案精度方面起着重要作用。必须精确地测量和/或控制光刻系统的部分(诸如平台和投影系统及其内部组件)的位置。

对投影图案的精度和光刻设备的期望生产量的要求不断增加。生产量的增加可能对光刻系统的某些组件的动态行为产生负面影响，而另一方面，由于期望的精度增加，对动态特性的要求变得更加严格。

其动态行为与获得期望增加的精度和生产量相关的若干组件由机械支撑件支撑，机械支撑件可以是或可以不是振动隔离系统的部分。

在已知的光刻设备中，中间质量被添加到支撑件中的线圈弹簧以便改变支撑件的动态特性。然而，这种方法增加了支撑件的质量和/或刚度，这在光刻设备的设计环境中是不期望的。

发明内容

在实施例中，旨在提供一种具有改进的动态特性的支撑件。

根据本发明的实施例，提供了一种支撑件，包括：

-第一端部和第二端部，其中第二端部在支撑件的纵向方向上位于与第一端部相反的一侧，

-线圈弹簧，被布置在第一端部和第二端部之间，该线圈弹簧包括：

-第一螺旋构件，在支撑件的圆周方向上在第一端部与第二端部之间延伸，以及

-第二螺旋构件，在支撑件的圆周方向上在第一端部与第二端部之间延伸，

其中线圈弹簧的第一螺旋构件和线圈弹簧的第二螺旋构件相对于彼此是可移动的，