[发明专利]电波吸收体膜及其制造方法在审
| 申请号： | 202080057040.3 | 申请日： | 2020-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN114223042A | 公开（公告）日： | 2022-03-22 |
| 发明（设计）人： | 大越慎一;生井飞鸟;吉清麻里绘;原正之;浅井隆宏 | 申请（专利权）人： | 国立大学法人东京大学;东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | H01F3/02 | 分类号： | H01F3/02;H01Q17/00;H05K9/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 电波 吸收体 及其 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.电波吸收体膜，其为具备形成于基材层上的电波吸收层的电波吸收体，
所述电波吸收层包含磁性体和粘结剂树脂，
所述粘结剂树脂包含芳香族酯-氨基甲酸酯共聚物。
2.如权利要求1所述的电波吸收体膜，其中，所述粘结剂树脂的玻璃化转变温度为100℃以下。
3.如权利要求2所述的电波吸收体膜，其中，所述粘结剂树脂的玻璃化转变温度为0℃以下。
4.如权利要求1～3中任一项所述的电波吸收体膜，其中，所述磁性体包含选自由ε型氧化铁、钡铁氧体磁性体、及锶铁氧体磁性体组成的组中的至少一者。
5.如权利要求1～4中任一项所述的电波吸收体膜，其中，所述电波吸收层包含碳纳米管。
6.如权利要求1～5中任一项所述的电波吸收体膜，其厚度为200μm以下。
7.如权利要求6所述的电波吸收体膜，其中，所述电波吸收层的厚度为50μm以下。
8.电波吸收体膜的制造方法，其包括下述电波吸收层形成工序：在基材层上涂布包含磁性体和粘结剂树脂的糊剂而形成涂布膜，然后使涂布膜干燥而形成电波吸收层，
所述粘结剂树脂包含芳香族酯-氨基甲酸酯共聚物。
9.如权利要求8所述的电波吸收体膜的制造方法，其包括下述切断工序：将由所述电波吸收层形成工序得到的、具备所述基材层和所述电波吸收层的层叠体切断，取得预先确定的尺寸的电波吸收体膜。
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