[发明专利]微反射镜阵列在审
申请号: | 202080058816.3 | 申请日: | 2020-08-05 |
公开(公告)号: | CN114341700A | 公开(公告)日: | 2022-04-12 |
发明(设计)人: | L·R·S·哈斯普斯劳格;V·罗切斯;G·布兰达尼·托里;A·哈尔巴赫;N·潘迪;S·A·戈登 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G02B26/08 | 分类号: | G02B26/08;G03F7/20 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 赵林琳 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反射 阵列 | ||
1.一种微反射镜阵列,包括:
衬底;
多个反射镜,用于反射入射光;
针对所述多个反射镜中的每个反射镜,支撑所述反射镜的相应的柱;以及
针对所述多个反射镜中的每个反射镜,被连接到所述衬底的一个或多个静电致动器,所述一个或多个静电致动器用于向所述柱施加力以使柱相对于所述衬底进行位移,由此使所述反射镜进行位移。
2.根据权利要求1所述的微反射镜阵列,其中所述一个或多个静电致动器包括至少一对梳状致动器,其中每个梳状致动器包括静态部分和移动部分,所述静态部分被固定到所述衬底,所述移动部分相对于所述衬底是可移动的并且被连接到所述柱,多个细长导体元件中的至少一个细长导体元件从所述静态部分延伸并且与从所述移动部分延伸的多个细长导体元件交错。
3.根据权利要求2所述的微反射镜阵列,其中所述一个或多个静电致动器包括两对梳状致动器,所述两对梳状致动器被连接到所述柱并且被布置为实现对所述反射镜的倾倒和倾斜位移控制,其中每个梳状致动器包括静态部分和移动部分,所述静态部分被固定到所述衬底,所述移动部分相对于所述衬底是可移动的并且被连接到所述柱。
4.根据权利要求2或3所述的微反射镜阵列,其中每个梳状致动器的所述移动部分被成形为梯形,并且在所述梯形的一些或全部角处被锚定到所述衬底。
5.根据前述权利要求中任一项所述的微反射镜阵列,其中每个静电致动器通过一个或多个弹性元件被连接到所述柱。
6.根据前述权利要求中任一项所述的微反射镜阵列,针对所述多个反射镜中的每个反射镜,所述微反射镜阵列包括用于感测所述反射镜的位移的感测元件。
7.根据权利要求6所述的微反射镜阵列,其中所述感测元件包括来自所述反射镜的突起和被连接到所述衬底的电极,所述感测元件被布置为感测所述突起与所述电极之间的电容。
8.根据权利要求6所述的微反射镜阵列,其中所述感测元件包括压电电阻器,所述压电电阻器被耦合到所述柱。
9.根据前述权利要求中任一项所述的微反射镜阵列,针对所述多个反射镜中的每个发射镜,所述微反射镜阵列包括用于将热从所述反射镜扩散到所述衬底的热扩散器。
10.根据权利要求9所述的微反射镜阵列,其中所述热扩散器包括散热器和一个或多个柔性连接器,所述一个或多个柔性连接器将所述散热器连接到所述柱。
11.根据前述权利要求中任一项所述的微反射镜阵列,其中所述多个反射镜中的每个反射镜用于反射具有基本上为13.5nm的波长的光。
12.一种可编程照射器,包括根据权利要求1至11中任一项所述的微反射镜阵列,所述微反射镜阵列用于调节辐射束。
13.根据权利要求12所述的可编程照射器,包括位移控制反馈系统,所述位移控制反馈系统被配置为针对所述多个反射镜中的每个反射镜确定所述反射镜的位置,并且基于所确定的所述位置和基于所述反射镜的预定目标位置来调整被施加给所述一个或多个静电致动器的电压。
14.一种光刻设备,被布置为将图案从图案形成装置投影到衬底上,包括根据权利要求12或13所述的可编程照射器,所述可编程照射器用于调节被用来照射所述图案形成装置的辐射束和/或用于调节被用来测量所述衬底上的目标结构的辐射束。
15.一种检查设备,包括根据权利要求12或13所述的可编程照射器,所述可编程照射器用于调节被用来测量衬底上的目标结构的辐射束。
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