[发明专利]微反射镜阵列

说明书

微反射镜阵列包括：衬底；用于反射入射光的多个反射镜；以及针对多个反射镜中的每个反射镜，将衬底连接到反射镜的相应的柱。针对多个反射镜中的每个反射镜，微反射镜阵列还包括被连接到衬底的一个或多个静电致动器，该一个或多个静电致动器用于向柱施加力以使柱相对于衬底进行位移，由此使反射镜进行位移。还公开了一种形成该微反射镜阵列的方法。微反射镜阵列可以用于可编程照射器中。可编程照射器可以用于光刻设备和/或检查设备中。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2019年8月19日提交的EP申请19192294.7和于2019年9月26日提交的EP申请19199722.0的优先权，这些申请通过引用被整体并入本文中。

技术领域

本发明涉及微反射镜阵列、包括这种微反射镜阵列的可编程照射器、包括这种可编程照射器的光刻设备、包括这种可编程照射器的检查设备以及用于形成这种微反射镜阵列的方法。

背景技术

光刻设备是被构造为将所期望的图案施加到衬底上的机器。光刻设备可以用在例如集成电路(IC)的制造中。光刻设备例如可以将图案形成装置处的图案投影到被设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。本文中使用的术语“图案形成装置”应被广义地解释为是指可以用于向入射辐射束赋予图案化横截面的装置，该图案化横截面对应于将在衬底的目标部分中创建的图案；在本文中也可以使用术语“光阀”。通常，图案将对应于在目标部分中创建的器件(诸如集成电路或其它器件)中的特定功能层。这种图案形成装置的示例包括：

-掩模(或掩模版)。掩模的概念在光刻中是公知的，它包括诸如二元、交替相移和衰减相移的掩模类型、以及各种混合掩模类型。根据掩模上的图案，这种掩模在辐射束中的放置引起撞击在掩模上的辐射的选择性透射(在透射掩模的情况下)或反射(在反射掩模的情况下)。掩模可以由诸如掩模台或掩模夹具的支撑结构支撑。该支撑结构确保掩模可以被保持在入射辐射束中的期望位置处，并且如果期望的话，掩模可以相对于束被移动；

-可编程反射镜阵列。这种装置的一个示例是具有粘弹性控制层和反射表面的矩阵可寻址表面。这种装置背后的基本原理是(例如)反射表面的寻址区域将入射光反射为衍射光，而未寻址区域将入射光反射为未衍射光。使用适当的滤光器，可以从反射光束中滤除未衍射光，只留下衍射光；以这种方式，光束根据矩阵可寻址表面的寻址图案而变得图案化。可编程反射镜阵列的备选实施例采用微小反射镜的矩阵排列，例如通过施加适当的局部电场，或通过采用静电或压电致动部件，微小反射镜中的每个微小反射镜可以围绕轴被单独倾斜。再一次，反射镜是矩阵可寻址的，使得被寻址的反射镜将在与未被寻址的反射镜不同的方向上反射入射辐射束；以这种方式，根据矩阵可寻址反射镜的寻址图案对反射束进行图案化。可以使用适当的电子部件来执行所需的矩阵寻址。在上述两种情况下，图案化部件可以包括一个或多个可编程反射镜阵列。例如，可以从美国专利US 5,296,891和US 5,523,193以及PCT专利申请WO 98/38597和WO 98/33096中收集关于这里所提到的反射镜阵列的更多信息，这些专利通过引用被并入本文中。这种可编程反射镜阵列可以由支撑结构(诸如框架或工作台)支撑，例如，其可以根据需要被固定或可移动；以及

-可编程LCD阵列。在美国专利US 5,229,872中给出了这种构造的示例，该专利通过应用被并入本文中。这种可编程LCD阵列可以由支撑结构(诸如框架或工作台)支撑，例如，其可以根据需要被固定或可移动。

出于简化的目的，本文的其余部分可以在某些位置处具体地将其本身指向涉及掩模和掩模台的示例；然而，在这种情况下所讨论的一般原理应当在如上所阐述的图案形成装置的更广泛的上下文中看到。

为了在衬底上投射图案，光刻设备可以使用电磁辐射。该辐射的波长决定了可以在衬底上形成的特征的最小尺寸。与使用例如波长为193nm的辐射的光刻设备相比，使用波长在4-20nm范围内(例如6.7nm或13.5nm)的极紫外(EUV)辐射的光刻设备可以用于在衬底上形成更小的特征。