[发明专利]使用加工测量进行传感器校准的制造控制

权利要求书

1.一种校准感测元件(202)的实例的方法，所述感测元件能够提供受到用户身体中的生理状况影响的电信号，所述方法包括：

从其上加工了所述感测元件(202)的所述实例的基板(302)获得加工过程测量数据；

获得与所述感测元件(202)相关联的校准模型；

使用所述校准模型基于所述加工过程测量数据来确定与所述感测元件(202)的所述实例相关联的校准数据，所述校准数据用于将所述电信号转换为经校准的测量参数；以及

将所述校准数据存储在与所述感测元件(202)的所述实例相关联的数据存储元件(206)中。

2.根据权利要求1所述的方法，其中确定所述校准数据包括通过将所述加工过程测量数据输入到所述校准模型基于所述加工过程测量数据来计算所述校准数据。

3.根据权利要求1所述的方法，其中：

获得所述加工过程测量数据包括从所述基板(302)上的多个过程控制监测器(PCM)区域获得多个加工过程测量；并且

确定所述校准数据包括基于所述多个加工过程测量来确定所述校准数据。

4.根据权利要求3所述的方法，所述方法还包括基于所述多个加工过程测量来确定与所述感测元件(202)相关联的代表性加工过程测量数据，其中确定所述校准数据包括通过将所述代表性加工过程测量数据输入到所述校准模型基于所述代表性加工过程测量数据来计算所述校准数据。

5.根据权利要求4所述的方法，其中确定所述代表性加工过程测量数据包括基于所述感测元件(202)的所述实例在所述基板(302)上的位置与所述多个过程控制监测器(PCM)区域的相应位置之间的空间关系来确定所述代表性加工过程测量数据。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，所述方法还包括：

从其上加工了所述感测元件(202)的多个实例的一个或多个基板(302)获得多个加工过程测量；

响应于参考输入，从所述感测元件(202)的所述多个实例获得参考测量输出；

基于所述参考测量输出与所述参考输入之间的关系来确定所述感测元件(202)的所述多个实例的参考校准数据；以及

基于所述多个加工过程测量与所述参考校准数据之间的关系来确定所述校准模型。

7.根据权利要求6所述的方法，所述感测元件(202)包括间质葡萄糖感测元件，其中获得所述参考测量输出包括响应于将所述间质葡萄糖感测元件的所述多个实例中的每个实例暴露于参考葡萄糖浓度，从所述间质葡萄糖感测元件的所述多个实例获得所述参考测量输出。

8.根据权利要求7所述的方法，其中确定所述参考校准数据包括基于所述间质葡萄糖感测元件的所述多个实例中的相应实例的每个相应参考测量输出与所述参考葡萄糖浓度之间的关系来确定多个校准因子。

9.根据权利要求8所述的方法，所述方法还包括基于与所述间质葡萄糖感测元件的所述相应实例相关联的相应基板位置相对于与所述多个加工过程测量相关联的相应基板位置来确定所述间质葡萄糖感测元件的所述多个实例中的每个实例的代表性加工过程测量数据，其中确定所述校准模型包括基于所述相应校准因子与所述间质葡萄糖感测元件的所述多个实例中的每个实例的所述代表性加工过程测量数据之间的关系来确定用于计算校准因子的公式。

10.根据权利要求9所述的方法，其中确定所述公式包括执行线性回归或人工神经网络技术以得到用于计算所述校准因子的线性公式，作为葡萄糖氧化酶(GOx)厚度、GOx活性、葡萄糖限制膜(GLM)厚度、工作电极铂虚阻抗、反电极铂虚阻抗和人血清白蛋白(HSA)浓度中的一者或多者的函数。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的方法，其中所述感测元件(202)包括间质葡萄糖感测元件，并且所述经校准的测量参数包括经校准的输出电流测量、经校准的电化学阻抗谱分析(EIS)值和经校准的反电极电压中的一者。