[发明专利]光学滤波器及其制造方法在审
申请号: | 202080066290.3 | 申请日: | 2020-12-03 |
公开(公告)号: | CN114514448A | 公开(公告)日: | 2022-05-17 |
发明(设计)人: | 佐原启一;伊村正明;东条誉子 | 申请(专利权)人: | 日本电气硝子株式会社 |
主分类号: | G02B5/28 | 分类号: | G02B5/28 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;徐飞跃 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 滤波器 及其 制造 方法 | ||
本发明提供一种可减小光的入射角依赖性的光学滤波器。该光学滤波器(1)具有氢化硅膜(4),在通过拉曼光谱法测定的氢化硅膜(4)的拉曼光谱中,根据由SiH引起的峰的面积与由SiH2引起的峰的面积之比求出的比(SiH/SiH2)在0.7以上。
技术领域
本发明涉及一种能够有选择地使特定波段的光透射的光学滤波器及该光学滤波器的制造方法。
背景技术
目前,能够有选择地使特定波段的光透射的光学滤波器被广泛用于红外传感器等的用途中。作为这种光学滤波器,例如有使用多层膜的带通滤波器。作为多层膜,使用通过交替地反复层叠折射率相对高的高折射率膜与折射率相对低的低折射率膜而成的膜(例如专利文献1)。在专利文献1中作为高折射率膜记载了氢化硅。另外,作为低折射率膜记载了氮化硅。氢化硅膜使用硅烷气体,通过用等离子体CVD(PECVD)进行蒸镀而形成。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:美国专利第5398133号公报。
发明内容
发明要解决的问题
近年来,随着自动驾驶的发展,正在研究在汽车上搭载安装诸如激光雷达、特别是利用激光来检测物体的被称作LiDAR(激光雷达,Light Detection and Ranging:激光探测与测量)的传感器等大量传感器。在这种传感器中,特别要求有选择地使近红外区域的特定波段透射,并且要求进一步提高性能。
特别是在使用多层膜的光学滤波器中,如果光的入射角(相对于与光学滤波器的主面正交的直线的角度)增大,则存在通过频带(透射频带)向短波长一侧位移的问题。因此,存在无法使入射角大的光充分透射的问题。即使通过专利文献1的光学滤波器,也不能够充分减小该入射角依赖性。
本发明的目的在于提供一种可减小光的入射角依赖性的光学滤波器以及该光学滤波器的制造方法。
用于解决问题的技术手段
本申请第1发明的具有含氢化硅膜的光学滤波器,其特征在于,在通过拉曼光谱法测定的所述含氢化硅膜的拉曼光谱中,根据由SiH引起的峰的面积与由SiH2引起的峰的面积之比求出的比(SiH/SiH2)为0.7以上。
本申请第2发明的具有含氢化硅膜的光学滤波器,其特征在于,通过氢前向散射光谱法测定的所述含氢化硅膜中的氢原子含量与通过卢瑟福背散射光谱法测定的所述含氢化硅膜中的硅原子含量之比(H/Si)为0.4以下。
在以下的说明中,有时将本申请的第1发明以及第2发明统称为本发明。
在本发明中,包括:透明基板;和滤波部,其设置在所述透明基板的一侧主面上,且由具有折射率相对高的高折射率膜和折射率相对低的低折射率膜的多层膜构成,所述高折射率膜是所述含氢化硅膜。
在本发明中,所述低折射率膜优选是含氧化硅膜。
在本发明中,优选还包括设置在所述透明基板的另一侧主面上且含有氢化硅的防反射膜。
本申请发明的光学滤波器的制造方法,其制造根据本发明构成的光学滤波器,其特征在于,包括:通过溅射法形成硅膜的工序;和在形成所述硅膜的工序之后,对所述硅膜进行氢化的工序。
发明效果
根据本发明,能够提供一种可减小光的入射角依赖性的光学滤波器以及该光学滤波器的制造方法。
附图说明
图1是表示本发明第1实施方式的光学滤波器的截面示意图。
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