[发明专利]聚合物、感光性树脂组合物、树脂膜和电子装置

说明书

一种聚合物，其包含由以下的式(1)和(2a)表示的结构单元。式(1)中，R₁、R₂、R₃和R₄分别独立地为氢或碳原子数1～30的有机基团，n为0、1或2，式(2a)中，R₅为碳原子数1～30的有机基团，R₁、R₂、R₃、R₄和R₅中的至少一个为碳原子数1～30的含氟有机基团。

技术领域

本发明涉及一种聚合物、感光性树脂组合物、树脂膜和电子装置。更详细而言，本发明涉及一种聚合物、包含该聚合物的感光性树脂组合物、由该感光性树脂组合物的固化物构成的树脂膜和包括该树脂膜的电子装置。

背景技术

在迄今为止的负型感光性树脂组合物的领域中，以随着图案的微细化的抗蚀剂图案高精度化为目的，开发出了各种技术。作为这种技术，例如可以举出专利文献1中所记载的技术。根据该文献，记载有一种含有[A]聚合物和[B]酸产生体的辐射敏感性树脂组合物。而且，记载有如下内容：通过[A]聚合物具有结构单元(I)和结构单元(II)，表示线宽的偏离的大小的LWR(Line Width Roughness：线宽粗糙度)性能和缺陷抑制性优异(专利文献1的段落0012)。其中记载有结构单元(I)是源自N-(叔丁氧基羰基甲基)马来酰亚胺、N-(1-甲基-1-环戊氧基羰基甲基)马来酰亚胺或N-(2-乙基-2-金刚烷氧基羰基甲基)马来酰亚胺的结构单元。并且，记载有结构单元(II)是源自2-降冰片烯的结构单元。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2015-184458号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

本发明人对负型感光性树脂组合物的耐久性进行了研究。其结果，明确了上述专利文献1中所记载的辐射敏感性树脂组合物在耐久性和低介电性方面有进一步改善的余地。本发明提供一种耐久性与低介电性的平衡优异的感光性树脂组合物和用于这样的感光性树脂组合物中的聚合物。

本发明人发现，通过使用包含具有特定的结构的结构单元的聚合物，包含该聚合物的感光性树脂组合物的固化物具有提高的耐热性、提高的耐溶剂性和低介电常数，从而完成了本发明。

用于解决技术问题的手段

本发明的发明人进行了深入研究，结果发现通过使用具有特定的含氟有机基团的聚合物，能够解决上述技术问题。

根据本发明，提供一种聚合物，其包含由以下的式(1)和(2a)表示的结构单元。

式(1)中，R₁、R₂、R₃和R₄分别独立地为氢或碳原子数1～30的有机基团，n为0、1或2，式(2a)中，R₅为碳原子数1～30的有机基团，R₁、R₂、R₃、R₄和R₅中的至少一个为碳原子数1～30的含氟有机基团。

并且，根据本发明，提供一种感光性树脂组合物，其含有：包含由以下的式(1)和(2a)表示的结构单元的聚合物；交联剂；和光敏剂。