[发明专利]弹性波装置在审

专利信息
申请号: 202080076647.6 申请日: 2020-11-05
公开(公告)号: CN114641931A 公开(公告)日: 2022-06-17
发明(设计)人: 岩本英树 申请(专利权)人: 株式会社村田制作所
主分类号: H03H9/02 分类号: H03H9/02;H03H9/05;H03H9/17;H03H9/25
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 赵琳琳
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 弹性 装置
【权利要求书】:

1.一种弹性波装置,具备:

支承基板;

压电体层,设置在所述支承基板上;以及

IDT电极,设置在所述压电体层上,并具有多个电极指,

所述支承基板是碳化硅基板,该碳化硅基板是3C-SiC型的立方晶构造,

所述压电体层是钽酸锂层或铌酸锂层,

所述弹性波装置利用SH波作为主模。

2.根据权利要求1所述的弹性波装置,其中,

所述压电体层是钽酸锂层。

3.根据权利要求2所述的弹性波装置,其中,

声表面波的传播方向和所述碳化硅基板的晶体构造中的[001]方向所成的角度为0°以上且20°以下,

将所述碳化硅基板的晶体构造中的[100]方向和所述IDT电极的所述多个电极指延伸的方向所成的角度设为α,将所述钽酸锂层的欧拉角设为此时,满足下述的式1以及式2,

[数学式1]

θLT≤-0.0000002385α5+0.0000526308α4-0.0035721517α3+0.0638600888α2+0.4558367918α+106.5910094271

…式1

[数学式2]

θLT≥-0.0000001962α5+0.0000459691α4-0.0033813638α3+0.0717339858α2+0.2871014600α+150.5064489119

…式2。

4.根据权利要求2或3所述的弹性波装置,其中,

将所述碳化硅基板的欧拉角设为将所述IDT电极的厚度设为TIDT,此时,满足下述的式3,

[数学式3]

TIDT-0.0000086722ψSiC3+0.0003976592ψSiC2-0.0002692711ψSiC+0.0566210388

…式3。

5.根据权利要求2~4中的任一项所述的弹性波装置,其中,

所述IDT电极的厚度为0.07λ以下。

6.根据权利要求1~5中的任一项所述的弹性波装置,其中,

还具备:低声速膜,设置在所述碳化硅基板与所述钽酸锂层之间,

在所述低声速膜传播的体波的声速比在所述钽酸锂层传播的体波的声速低。

7.根据权利要求6所述的弹性波装置,其中,

所述低声速膜的厚度为0.1λ以上且0.15λ以下。

8.根据权利要求6所述的弹性波装置,其中,

所述低声速膜的厚度为0.15λ以上且0.2λ以下。

9.根据权利要求6所述的弹性波装置,其中,

所述低声速膜的厚度为0.2λ以上。

10.根据权利要求1所述的弹性波装置,其中,

所述压电体层是铌酸锂层。

11.根据权利要求10所述的弹性波装置,其中,

在将所述铌酸锂层的欧拉角设为时,60°≤θLN≤175°。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社村田制作所,未经株式会社村田制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202080076647.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top