[发明专利]辐射源测试

权利要求书

1.一种生成用于辐射源的测试的方法，所述辐射源用于光刻设备，所述方法包括以下步骤：

接收与所述辐射源的多个发射图案相对应的数据；以及

分析所述数据以确定用于配置一个或多个另外的发射图案的参数，所述一个或多个另外的发射图案用于测试所述辐射源；

其中所述参数被确定为：使得所述辐射源当执行使用所述参数所配置的所述一个或多个另外的发射图案时的稳定性与所述辐射源当执行所述多个发射图案时的稳定性基本上相同或在相对于所述辐射源当执行所述多个发射图案时的稳定性的预定界限内，

并且所述一个或多个另外的发射图案当由所述辐射源执行时的总持续时间将小于所述多个发射图案当由所述辐射源执行时的持续时间。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述辐射源的稳定性是固有稳定性。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述辐射源的稳定性是主动受控稳定性。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述辐射源的稳定性是以下项中的至少一项：波长稳定性；带宽稳定性；能量稳定性；温度稳定性。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述预定界限与相对于所述辐射源的目标温度、和/或来自所述辐射源的辐射的目标波长和/或带宽和/或能量中的至少一者的限定偏差对应。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述参数包括以下项中的至少一项：图案数量；独有图案的数量；独有图案的特性；图案的频率；每个图案的突发数量；每个突发的脉冲数量；占空比信息；频率和/或幅度和/或相位调制信息；时间戳；辐射源标识信息；每个图案的射束能量轮廓；每个图案的射束波长轮廓；每个图案的射束带宽轮廓。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述参数是基于以下项中的至少一项来确定的：

反复出现的相同发射图案的数量；具有在预定阈值内的特性的发射图案的数量；重复的相同或相似发射图案的数量；重复的相同或相似发射图案或序列的重复频率；所述辐射的波长、带宽和/或能量的诱导变化；所述辐射源的温度的诱导变化。

8.根据权利要求1所述的方法，还包括以下步骤：配置用于计算机的程序以利用所述参数来控制所述辐射源。

9.根据权利要求1所述的方法，还包括以下步骤：控制所述辐射源以执行所述一个或多个另外的发射图案。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述辐射源在所述光刻设备处于离线配置时被测试。

11.根据权利要求1所述的方法，其中当所述辐射源在光刻设备的控制下时，与所述辐射源的所述多个发射图案相对应的所述数据被生成。

12.根据权利要求1所述的方法，其中所述方法的所有步骤在半导体制造设备内被原位执行。

13.一种计算机可读非瞬态介质，所述计算机可读非瞬态介质具有被存储在所述计算机可读非瞬态介质上的指令，所述指令在由计算机执行时使所述计算机执行生成用于辐射源的测试的方法，所述辐射源用于光刻设备，所述方法包括以下步骤：

接收与所述辐射源的多个发射图案相对应的数据；以及

分析所述数据以确定用于配置一个或多个另外的发射图案的参数，所述一个或多个另外的发射图案用于测试所述辐射源；

其中所述参数被确定为：使得所述辐射源当执行使用所述参数所配置的所述一个或多个另外的发射图案时的稳定性，与所述辐射源当执行所述多个发射图案时的稳定性基本上相同或在相对于所述辐射源当执行所述多个发射图案时的稳定性的预定界限内，并且

所述一个或多个另外的发射图案当由所述辐射源执行时的总持续时间将小于所述多个发射图案当由所述辐射源执行时的持续时间。