[发明专利]辐射源测试

说明书

一种生成用于辐射源的测试的方法，该辐射源用于光刻设备，该方法包括以下步骤：接收与辐射源的多个发射图案相对应的数据。该方法还包括以下步骤：分析数据以确定用于配置一个或多个另外的发射图案的参数，该一个或多个另外的发射图案用于测试辐射源。参数被确定为：使得辐射源当执行使用参数所配置的一个或多个另外的发射图案时的稳定性与辐射源当执行多个发射图案时的稳定性基本上相同或在相对于辐射源当执行多个发射图案时的稳定性的预定界限内。另外，参数被确定为：使得一个或多个另外的发射图案当由辐射源执行时的总持续时间将小于多个发射图案当由辐射源执行时的持续时间。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2019年10月30日提交的题为“RADIATION SOURCE TESTING”的美国申请No.62/928,254的优先权，该美国申请通过引用被整体并入本文中。

技术领域

本发明涉及一种用于生成用于辐射源的测试的方法和系统、以及相关的计算机程序，计算机可读介质和数据处理设备。辐射源可以是用于光刻设备的辐射源。

背景技术

光刻设备是一种被构造为将期望图案施加到衬底上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。例如，光刻设备可以将图案化装置(例如，掩模)处的图案投射到被设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。

为了在衬底上投射图案，光刻设备可以使用电磁辐射。该辐射的波长决定了可以在衬底上形成的特征的最小尺寸。例如，与使用例如波长为193nm的辐射的光刻设备相比，使用波长在4至20nm范围内(例如6.7nm或13.5nm)的极紫外(EUV)辐射的光刻设备可以用于在衬底上形成更小的特征。

电磁辐射可以由辐射源提供，该辐射源例如可以是EUV或深紫外(DUV)辐射源。通常在整个光刻工艺中控制这种辐射源以提供具有所需特性的辐射，从而确保在衬底处提供正确且及时的辐射剂量。准确和可靠的辐射源对于光刻工艺是关键的。

为了确保辐射源的准确性和/或可靠性和/或稳定性，希望以一定间隔测试辐射源。然而，在生产环境中，在不显著地中断生产过程的情况下测试辐射源的机会有限。

此外，期望测试具有尽可能与在生产环境中使用的使用简档类似的使用简档的辐射源。然而，在生产环境中使用的使用简档可以包括私有信息，并且因此与使用简档相关的信息对于测试辐射源来说可能是不容易获得或不可访问的。

该背景用于设置场景以允许本领域读者更好地理解以下描述。因此，上述讨论中无一必须被认为是对该讨论是现有技术的部分或是公知常识的承认。本发明的一个或多个方面/实施例可以解决或不解决背景问题中的一个或多个。

本发明的至少一个方面的至少一个实施例的目的是消除或至少减轻现有技术中的至少一个问题。

此外，本发明的至少一个方面的至少一个实施例的目的是提供一种用于测试辐射源的技术上和商业上有效的方法。

发明内容

根据本发明的第一方面，提供了一种生成用于辐射源的测试的方法，该辐射源用于光刻设备，该方法包括以下步骤：接收与辐射源的多个发射图案相对应的数据；以及分析数据以确定用于配置一个或多个另外的发射图案的参数，一个或多个另外的发射图案用于测试辐射源；其中参数被确定为：使得辐射源当执行使用参数所配置的一个或多个另外的发射图案时的稳定性与辐射源当执行多个发射图案时的稳定性基本上相同或在相对于辐射源当执行多个发射图案时的稳定性的预定界限内，并且一个或多个另外的发射图案当由辐射源执行时的总持续时间将小于多个发射图案当由辐射源执行时的持续时间。