[发明专利]用于在光刻过程中改善衬底的均匀性的方法

权利要求书

1.一种处理衬底的方法，所述衬底具有形成在其上的金属氧化物抗蚀剂层，所述方法包括以下步骤：

将所述衬底曝光于图案化辐射以形成包括位于所述金属氧化物抗蚀剂层中的多个特征的图案；

将所述衬底的包括至少一个所述特征的一部分曝光于调节辐射，由此引起所述金属氧化物抗蚀剂层在所述部分中收缩。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述调节辐射是电磁辐射。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述调节辐射是电子束辐射。

4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中将所述衬底的一部分曝光于调节辐射的步骤包括将所述衬底的多个部分曝光于调节辐射。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述多个部分中的至少两个部分被曝光于不同剂量的调节辐射。

6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述调节辐射遍及被曝光的部分是均匀的。

7.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中所述调节辐射的强度遍及被曝光的部分变化，以便在所述被曝光的部分上形成图案。

8.一种通过光刻在衬底上形成图案的方法，所述方法包括根据前述权利要求中任一项所述的处理衬底的方法。

9.根据权利要求8所述的方法，还包括在所述将所述衬底的一部分曝光于调节辐射的步骤之后，显影由所述图案化辐射所形成的所述图案的步骤。

10.一种包括计算机可读指令的计算机程序，所述计算机可读指令当在适当的计算机设备上运行时促使所述计算机设备执行前述权利要求中任一项所述的方法。

11.一种计算机可读介质，所述计算机可读介质具有存储于其上的根据权利要求10所述的计算机程序。

12.一种具有处理器的设备，所述处理器专门适于执行根据权利要求1至9中任一项所述的方法的步骤和/或运行根据权利要求10所述的计算机程序。

13.根据权利要求12所述的设备，所述设备被专门配置为能够操作以在衬底上执行光刻过程的光刻设备。