[发明专利]衬底支撑装置、光刻设备、用于操纵电荷分布的方法以及用于制备衬底的方法

权利要求书

1.衬底支撑装置，被配置为支撑衬底，所述衬底支撑装置包括：

多个突节，所述突节从所述衬底支撑装置的基表面突出，所述突节具有处于用于支撑所述衬底的下表面的平面中的远端部，所述衬底支撑装置的所述基表面与所述衬底的所述下表面之间具有间隙；以及

液体供应通道，用于将传导性液体供应至所述间隙，以便将所述衬底支撑装置的所述基表面与所述衬底的所述下表面之间的所述间隙进行桥接，由此允许电荷在所述衬底支撑装置与所述衬底之间通过；

其中所述衬底支撑装置具有受控电势，使得所述衬底的所述下表面处的电荷分布能够被操纵。

2.一种衬底支撑装置，被配置为支撑衬底，所述衬底支撑装置包括：

多个突节，所述突节从所述衬底支撑装置的基表面突出，所述突节具有处于用于支撑所述衬底的下表面的平面中的远端部，所述衬底支撑装置的所述基表面与所述衬底的所述下表面之间具有间隙；以及

蒸气供应通道，所述蒸气供应通道用于将传导性液体的蒸气供应至所述衬底的所述下表面的与所述突节中的至少一个突节的远端部邻接的区域，由此允许电荷在所述衬底的所述下表面的所述区域与所述突节之间通过；

其中所述远端部具有受控电势，使得在所述衬底的所述下表面处的电荷分布能够被操纵。

3.根据权利要求1或2所述的衬底支撑装置，还包括气体供应通道，所述气体供应通道用于将气体供应至所述间隙，以便从所述间隙中移走所述传导性液体，和/或其中所述传导性液体或所述传导性液体的蒸汽被供应，使得所述传导性液体的湿气层被形成在所述衬底的所述下表面处。

4.根据前述权利要求中任一项所述的衬底支撑装置，其中所述衬底支撑装置的至少部分被电接地或电偏置。

5.根据前述权利要求中任一项所述的衬底支撑装置，包括：

一个或多个抽取通道，用于从所述间隙抽取气体和液体中的至少一者，

可选地，其中所述基表面被成形为使得所述间隙朝向所述一个或多个抽取通道变窄。

6.根据前述权利要求中任一项所述的衬底支撑装置，其中：

所述传导性液体包括从由CO₂饱和水和异丙醇组成的组中选择的至少一种；和/或

所述衬底支撑装置被配置为：使用机械夹持技术来保持所述衬底。

7.一种光刻设备，包括根据前述权利要求中任一项所述的衬底支撑装置，其中所述衬底支撑装置是静止的。

8.一种用于操纵衬底的下表面的电荷分布的方法，所述方法包括：

在衬底支撑装置的基表面与所述衬底的所述下表面之间存在间隙的情况下，将所述衬底的所述下表面支撑在从所述衬底支撑装置的所述基表面突出的多个突节上，所述突节具有处于平面中的远端部；以及

将传导性液体供应至所述间隙，以便将在所述衬底支撑装置的所述基表面与所述衬底的所述下表面之间的所述间隙进行桥接，由此允许电荷在所述衬底支撑装置与所述衬底之间通过；

其中所述衬底支撑装置具有受控电势，使得在所述衬底的所述下表面处的电荷分布被操纵。

9.根据权利要求8所述的方法，包括：将气体供应至所述间隙，以便径向移动所述间隙中的所述传导性液体，使得当所述传导性液体移动以与所述衬底的所述下表面的带电位置接触时，电荷在所述带电位置和所述衬底支撑装置的所述基表面之间通过。

10.根据权利要求8或9所述的方法，包括：将气体供应至所述间隙，以便从所述间隙中移走所述传导性液体，其中所述气体包括可溶于所述传导性液体中的有机液体的蒸汽，使得在所述传导性液体的弯液面跨所述衬底的所述下表面移动的同时，所述蒸汽溶解到所述传导性液体的所述弯液面中，以便促进所述下表面的干燥。