[发明专利]衬底支撑装置、光刻设备、用于操纵电荷分布的方法以及用于制备衬底的方法

说明书

衬底支撑装置被配置为支撑衬底。衬底支撑装置包括从衬底支撑装置的基表面突出的多个突节。突节具有处于用于支撑衬底的下表面的平面中的远端部，在衬底支撑装置的基表面与衬底的下表面之间具有间隙。衬底支撑装置包括液体供应通道，该液体供应通道用于向间隙供应传导性液体，以便将衬底支撑装置的基表面与衬底的下表面之间的间隙进行桥接，由此允许电荷在衬底支撑装置与衬底之间通过。衬底支撑装置具有受控电势，使得在衬底的下表面处的电荷分布能够被操纵。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2019年11月14日提交的EP申请19209256.7的优先权，该EP申请通过引用被整体并入本文中。

技术领域

本发明涉及衬底支撑装置、光刻设备、用于操纵电荷分布的方法以及用于制备衬底的方法。

背景技术

光刻设备是将所需图案施加到衬底上(通常施加到衬底的目标部分上)的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。

衬底位于衬底台上，该衬底台用于将所需图案施加到衬底上。衬底台会随时间退化，特别是在浸没光刻中。

希望减少衬底台的退化。

发明内容

根据本发明的一个方面，提供了一种衬底支撑装置，该衬底支撑装置被配置为支撑衬底，该衬底支撑装置包括：多个突节，该突节从衬底支撑装置的基表面突出，该突节具有处于用于支撑衬底的下表面的平面中的远端部，衬底支撑装置的基表面与衬底的下表面之间具有间隙；以及液体供应通道，用于将传导性液体供应至间隙，以便将衬底支撑装置的基表面与衬底的下表面之间的间隙进行桥接，由此允许电荷在衬底支撑装置与衬底之间通过；其中衬底支撑装置具有受控电势，使得衬底的下表面处的电荷分布能够被操控。

根据本发明的一个方面，提供了一种衬底支撑装置，该衬底支撑装置被配置为支撑衬底，该衬底支撑装置包括：多个突节，该突节从衬底支撑装置的基表面突出，该突节具有处于用于支撑衬底的下表面的平面中的远端部，衬底支撑装置的基表面与衬底的下表面之间具有间隙；以及蒸气供应通道，该蒸气供应通道用于将传导性液体的蒸气供应至衬底的下表面的与突节中的至少一个突节的远端部邻接的区域，由此允许电荷在衬底的下表面的该区域与突节之间通过；其中远端部具有受控电势，使得在衬底的下表面处的电荷分布能够被操纵。

根据本发明的一个方面，提供了一种用于操纵衬底的下表面的电荷分布的方法，该方法包括：在衬底支撑装置的基表面与衬底的下表面之间存在间隙的情况下，将衬底的下表面支撑在从衬底支撑装置的基表面突出的多个突节上，该突节具有处于平面中的远端部；以及将传导性液体供应至间隙，以便将在衬底支撑装置的基表面与衬底的下表面之间的间隙进行桥接，由此允许电荷在衬底支撑装置与衬底之间通过；其中衬底支撑装置具有受控电势，使得在衬底的下表面处的电荷分布被操纵。

根据本发明的一个方面，提供了一种用于操纵衬底的下表面的电荷分布的方法，该方法包括：在衬底支撑装置的基表面与衬底的下表面之间存在间隙的情况下，将衬底的下表面支撑在从衬底支撑装置的基表面突出的多个突节上，该突节具有处于平面中的远端部；以及将传导性液体的蒸汽供应至衬底的下表面的与突节中的至少一个突节的远端部邻接的区域，由此允许电荷在衬底的下表面的该区域与突节之间通过；其中远端部具有受控电势，使得在衬底的下表面处的电荷分布被操纵。

根据本发明的一个方面，提供了一种用于制备衬底的方法，该衬底通过图案化辐射束来曝光，该方法包括：使衬底进入光刻设备；将衬底支撑在衬底支撑装置上；干燥衬底的下表面；以及将经干燥的衬底移动到衬底台，在该衬底台处衬底的与下表面相对的上表面将经受图案化辐射束的曝光。

附图说明

现在将仅通过示例的方式，参考所附示意图来描述本发明的实施例，其中对应的附图标记指示对应的部分，并且其中：

图1描绘了根据本发明的实施例的光刻设备；