[发明专利]在NFT上累积光学透明材料以改进可靠性的原位NFT预处理在审
申请号: | 202080079715.4 | 申请日: | 2020-05-29 |
公开(公告)号: | CN114746940A | 公开(公告)日: | 2022-07-12 |
发明(设计)人: | S·拉贾里亚;青木佑一;加藤幸男;永瀬康介;桥本清司;戴青 | 申请(专利权)人: | 西部数据技术公司 |
主分类号: | G11B5/60 | 分类号: | G11B5/60;G11B5/31;G11B5/00;G11B5/41;G11B7/126;G11B21/02;G11B5/48;G11B5/40 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 刘慧;刘芳 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | nft 累积 光学 透明 材料 改进 可靠性 原位 预处理 | ||
本公开涉及预处理磁记录头以延长磁介质驱动器的寿命。将透明涂抹物有目的地形成于所述磁记录头上以确保所述磁记录头不会过热且导致短驱动器寿命。所述透明涂抹物由磁介质中存在的材料形成。所述透明涂抹物是通过使用来自所述磁介质的透明材料预处理所述磁记录头而形成。所述预处理在不将任何数据写入到所述磁介质的情况下进行。一旦所述透明涂抹物处于适当位置,就可进行写入。如果所述透明涂抹物退化,那么可在稍后时间重新处理所述磁记录头。此外,如果光学吸收涂抹物产生,那么其可被移除且可形成新的透明涂抹物。
本申请要求2020年2月28日提交的美国申请第16/805,414号的优先权,所述美国申请以全文引用的方式并入本文中。
技术领域
本公开的实施例大体上涉及一种用于磁介质驱动器的磁记录头。
背景技术
计算机的运行和能力的核心是将数据存储和写入到数据存储装置,例如磁介质驱动器(例如,硬盘驱动器(HDD))。由计算机处理的数据量正在快速增加。需要磁记录介质的更高记录密度以增加计算机的功能和能力。
为了实现更高的记录密度(例如对于磁记录介质超过1Tbit/in2的记录密度),写入轨道的宽度和间距变窄,且因此在每一写入轨道中编码的对应磁记录位变窄。使写入轨道的宽度和间距变窄的一个挑战是在面向记录介质的表面的介质处减小磁记录写头的主极的表面区域。随着主极变得更小,记录场也变得更小,从而限制磁记录写头的有效性。
热辅助磁记录(Heat-assisted magnetic recording;HAMR)和微波辅助磁记录(microwave assisted magnetic recording;MAMR)是改进磁记录介质的记录密度的两种类型的能量辅助记录技术。在HAMR中,激光源紧邻写入元件定位或位于写入元件附近,以便产生热量,例如,激光源激发近场换能器(NFT)以在磁记录介质的写入位置处产生热量。NFT温度对装置可靠性具有直接影响。高NFT温度将产生较低寿命/可靠性。另外,HAMR界面将在NFT上累积材料。此累积的材料时常被称作涂抹物。涂抹物含有提高NFT温度的光学吸收材料。
因此,所属领域中需要一种减少或消除NFT上的光学吸收涂抹物的改进的磁介质驱动器。
发明内容
本公开涉及预处理磁记录头以延长磁介质驱动器的寿命。将光学透明涂抹物有目的地形成于所述磁记录头上以确保所述磁记录头不会过热且导致短驱动寿命。所述透明涂抹物由所述磁介质中发现的材料形成。所述透明涂抹物通过使用来自所述磁介质的透明材料预处理所述磁记录头而形成。所述预处理在不将任何数据写入到所述磁介质的情况下进行。一旦所述透明涂抹物处于适当位置,就可进行写入。如果所述透明涂抹物退化,可在稍后时间重新处理所述磁记录头。此外,如果光学吸收涂抹物产生,那么其可被移除且可形成新的透明涂抹物。
在一个实施例中,一种方法包括:在第一电平下将功率施加到磁记录头,其中第一电平小于将数据写入到磁介质所必需的功率量,其中磁记录头安置在磁介质上方;及在大于第一电平的第二电平下将功率施加到磁记录头,其中第二电平大于第一电平,且其中第二电平足以将数据写入到磁介质。
在另一实施例中,一种方法包括:从磁记录头移除光学吸收涂抹物;将透明涂抹物施加到磁记录头,其中所述施加在不将数据写入到磁记录介质的情况下进行;以及将数据写入到磁记录介质。
在另一实施例中,一种方法包括:在不将数据写入到磁介质的情况下用基于硅的材料预处理磁记录头;使用磁记录头将数据写入到磁介质;清洁磁记录头以移除含光学吸收材料;以及用基于硅的材料重新处理磁记录头。
在另一实施例中,一种磁介质驱动器包括:控制单元,其被配置成:检测到磁记录头具有吸收涂抹物;使得吸收涂抹物被移除;使得非吸收涂抹物沉积于磁记录头上;以及用磁记录头恢复正常写入操作。
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