[发明专利]基板输送装置和基板处理系统

权利要求书

1.一种基板输送装置，其中，

该基板输送装置包括：

平面马达，其设于输送室，并具有排列着的线圈；

输送单元，其在所述平面马达上移动；以及

控制部，其控制所述线圈的通电，

所述输送单元包括：

两个基座，其具有排列着的磁体，并在所述平面马达上移动；

基板支承构件，其用于支承基板；以及

连杆机构，其将所述基板支承构件和两个所述基座连结。

2.根据权利要求1所述的基板输送装置，其中，

所述连杆机构通过变更两个所述基座之间的间隔，来变更所述基板支承构件的延伸量。

3.根据权利要求2所述的基板输送装置，其中，

所述连杆机构具有第1连杆和第2连杆，

所述第1连杆的一端旋转自如地与一所述基座连接，所述第1连杆的另一端旋转自如地与所述基板支承构件连接，

所述第2连杆的一端旋转自如地与另一所述基座连接，所述第2连杆的另一端旋转自如地与所述基板支承构件连接。

4.根据权利要求2所述的基板输送装置，其中，

所述连杆机构具有第1连杆、第2连杆、第3连杆和第4连杆，

所述第1连杆的一端旋转自如地与一所述基座连接，所述第1连杆的另一端旋转自如地与所述第4连杆的一端连接，

所述第2连杆的一端旋转自如地与另一所述基座连接，所述第2连杆的另一端旋转自如地与所述第3连杆的一端连接，

所述第3连杆的一端旋转自如地与所述第2连杆的另一端连接，所述第3连杆的另一端旋转自如地与所述基板支承构件连接，

所述第4连杆的一端旋转自如地与所述第1连杆的另一端连接，所述第4连杆的另一端旋转自如地与所述基板支承构件连接，

所述第1连杆的中途和所述第2连杆的中途旋转自如地连接。

5.根据权利要求2～4中任一项所述的基板输送装置，其中，

该基板输送装置还具有限制所述连杆的旋转角度的卡定构件。

6.根据权利要求1所述的基板输送装置，其中，

所述连杆机构通过变更两个所述基座之间的间隔，来变更所述基板支承构件的高度。

7.根据权利要求1所述的基板输送装置，其中，

所述连杆机构通过变更两个所述基座之间的间隔，来变更所述基板支承构件的倾斜度。

8.根据权利要求6所述的基板输送装置，其中，

所述连杆机构具有第1连杆、第2连杆和第3连杆，

所述第1连杆的一端旋转自如地与一所述基座连接，所述第1连杆的另一端旋转自如地与所述第3连杆的一端连接，

所述第2连杆的一端旋转自如地与另一所述基座连接，所述第2连杆的另一端旋转自如地与所述第3连杆的另一端连接，

所述第1连杆与所述第3连杆所成的角和所述第2连杆与所述第3连杆所成的角相等。

9.根据权利要求7所述的基板输送装置，其中，

所述连杆机构具有第1连杆、第2连杆和第3连杆，

所述第1连杆的一端旋转自如地与一所述基座连接，所述第1连杆的另一端旋转自如地与所述第3连杆的一端连接，

所述第2连杆的一端旋转自如地与另一所述基座连接，所述第2连杆的另一端旋转自如地与所述第3连杆的另一端连接，

至少任一所述连杆的角度被固定。

10.一种基板处理系统，其中，

该基板处理系统包括：

多个室；

输送室，其将所述室连结；以及

权利要求1～9中任一项所述的基板输送装置，其设于所述输送室。

11.根据权利要求10所述的基板处理系统，其中，

所述输送室是真空气氛的真空输送室。