[发明专利]基板输送装置和基板处理系统

权利要求书

1.一种基板输送装置，其中，

该基板输送装置包括：

第1平面马达，其设于第1室，并具有排列着的线圈；

第2平面马达，其设于与所述第1室连接的第2室，并具有排列着的线圈；

一对输送单元，其在所述第1平面马达和/或所述第2平面马达上移动，并能够输送基板；以及

控制部，其控制所述第1平面马达和所述第2平面马达的线圈的通电。

2.根据权利要求1所述的基板输送装置，其中，

所述输送单元包括：

基座，其具有排列着的磁体，并在所述第1平面马达和/或所述第2平面马达上磁悬浮；以及

基板支承构件，其设于所述基座，用于支承基板。

3.根据权利要求1或2所述的基板输送装置，其中，

所述控制部在维持着一对所述输送单元的相对的位置关系的状态下使一对所述输送单元移动。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的基板输送装置，其中，

所述第1室是输送室，

所述第2室具有载置所述基板的载置台。

5.根据权利要求4所述的基板输送装置，其中，

所述第2室是处理室和/或加载互锁室。

6.根据权利要求1～3中任一项所述的基板输送装置，其中，

所述第1室和所述第2室借助通路连接。

7.根据权利要求6所述的基板输送装置，其中，

所述通路是闸阀。

8.一种基板处理系统，其中，

该基板处理系统包括：

所述第1室；

所述第2室；以及

权利要求1～7中任一项所述的基板输送装置。

9.根据权利要求8所述的基板处理系统，其中，

所述第1室是真空气氛的真空输送室。