[发明专利]具有参考结构的可植入阵列及其制造方法在审
申请号: | 202080082303.6 | 申请日: | 2020-12-17 |
公开(公告)号: | CN114746014A | 公开(公告)日: | 2022-07-12 |
发明(设计)人: | 约翰纳斯·埃哈特;马丁·舒特勒;托马斯·斯蒂格利茨;迈克尔·博克 | 申请(专利权)人: | 柯泰克股份有限公司 |
主分类号: | A61B5/06 | 分类号: | A61B5/06;A61B5/291 |
代理公司: | 杭州华鼎知识产权代理事务所(普通合伙) 33217 | 代理人: | 魏亮 |
地址: | 德国弗*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 参考 结构 植入 阵列 及其 制造 方法 | ||
1.一种适合放置在人体或动物体的解剖组织中的可植入阵列,包括
结构(5),用于在磁共振图像中参考可植入电极阵列的预定义的不同点(2),所述结构(5)布置在所述可植入电极阵列的预定义的部分中,所述结构(5)包括:
多个式样(51、52、53、54、55),每个所述式样(51、52、53、54、55)具有预定义的形式并且包括一种材料,所述材料的磁化率不同于所述可植入阵列周围的解剖组织在置于所述人体或动物体内时的磁化率,
每个所述式样(51、52、53、54、55)与所述预定义的不同点(2)之一处于预定义的空间关系中。
2.根据权利要求1所述的可植入阵列,其特征在于,
所述材料包括选自铁、氧化铁、稀土氧化物和热解碳的颗粒。
3.根据权利要求1或2所述的可植入阵列,其特征在于,
所述式样(51、52、53、54、55)包括的材料的磁化率高于所述电极阵列周围的所述解剖组织在置于所述人体或动物体内时的磁化率。
4.根据前述权利要求之一所述的可植入阵列,其特征在于,
每个所述式样(51、52、53、54、55)独立设置并与其他所述式样(51、52、53、54、55)间隔开。
5.根据前述权利要求之一所述的可植入阵列,其特征在于,
所述结构(5)在所述电极阵列的所述预定义的部分上形成网格。
6.根据前述权利要求之一所述的可植入阵列,其特征在于,
所述预定义的点至少是以下之一
-电极触点,
-流体接口,
-几何意义的点。
7.根据前述权利要求之一所述的可植入阵列,其特征在于,
所述预定义的部分包括以下至少一项
-顶表面(8),
-后表面,
-边缘,
-拐角。
8.根据前述权利要求之一所述的可植入阵列,其特征在于,
至少三个所述式样(51、52、53)沿着笔直的第一线对齐,并且至少三个所述式样(52、54、55)沿着笔直的第二线对齐,所述第二线垂直于所述第一线。
9.根据前述权利要求之一所述的可植入阵列,其特征在于,
所述材料是聚合物,特别是选自硅橡胶、聚氨酯、聚酰亚胺、环氧树脂、液晶聚合物和聚对二甲苯。
10.根据前述权利要求之一所述的可植入阵列,其特征在于,
所述可植入电极阵列包括至少一层聚合物,特别是选自硅橡胶、聚氨酯、聚酰亚胺、环氧树脂、液晶聚合物和聚对二甲苯。
11.制造适合放置在人体或动物体的解剖组织中的可植入阵列,特别是根据前述权利要求之一所述的电极阵列的方法,包括以下步骤:
a.将第一层聚合物沉积在机械载体上;
b.固化第一层聚合物;
c.将导电层沉积在所述第一层聚合物上;
d.使用激光对所述导电层进行式样化,从而形成电极触点(2)、互连轨道和焊盘;
e.沉积第二层聚合物;
f.固化所述第二层聚合物;
g.使用激光将沟槽切入所述聚合物层,所述沟槽定义了MRI参考结构(5);
h.所述沟槽填充有聚合物,该聚合物包含的材料的磁化率不同于所述电极阵列周围的解剖组织在置于人体或动物体内时的磁化率;
i.固化所述沟槽中所填充的聚合物;
j.沉积并固化聚合物覆盖层;
ķ.使用激光去除所述聚合物覆盖层而露出电极触点;
l.通过使用激光切割所有沉积的聚合物来定义所述电极阵列的轮廓;
m.所述电极阵列与所述机械载体分离。
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