[发明专利]具有参考结构的可植入阵列及其制造方法

说明书

一种可植入阵列，特别是电极阵列，适合放置在人体或动物体的解剖组织中，包括：结构，用于在磁共振图像中参考可植入电极阵列的预定义的不同点，结构布置在可植入阵列的预定义的部分中，结构包括：多个式样，每个式样具有预定义的形式并且包括材料，材料的磁化率不同于电极阵列周围的解剖组织放置在人体或动物体内时的磁化率，每个式样与预定义的不同点之一处于预定义的空间关系。

技术领域

本发明涉及一种可植入阵列，特别涉及一种具有参考结构的可植入电极阵列，以及制造可植入阵列的方法，特别是具有例如当植入人体或动物体内时在磁共振图像（magnetic resonance images，MRI）中可见的具有参考结构的可植入电极阵列的方法。

背景技术

上述的阵列被植入大脑表面，例如用于术前评估癫痫患者的皮层电活动。

因此，MRI用于定位关于患者的解剖结构的可植入阵列的电极触点。然而，金属部件或其他良好的导电材料（如碳和导电聚合物）可能会导致MRI伪影，从而影响结果，尤其是在植入物附近。可能具有100倍以下金属厚度的薄膜植入物可以减轻这些伪影，但薄膜植入物在许多临床MRI序列中会产生不明显的MRI信号空洞，因此不适合通过MRI定位电极触点。

另一方面，具有非常小的金属触点、非常薄的金属层或根本没有金属的植入物可能在临床MRI中根本看不到。

但当务之急是，医生需要知道植入物的位置，以及颅内EEG值随电极定位精度的提高而增加。

发明内容

本发明基于以下问题：提供一种可植入阵列，用于基于MRI定位其标准或微型平面电极触点，以及一种制造可在MRI中精确定位的此类电极阵列的方法。

上述问题通过根据各自独立权利要求的可植入阵列，特别是可植入电极阵列，以及制造可植入阵列的方法，特别是可植入电极阵列的方法来解决。本发明的其他方面在从属权利要求中定义。

因此，提供了一种可植入阵列，特别是电极阵列，适合放置在人体或动物体的解剖组织中，包括

用于参考磁共振图像中可植入电极阵列的预定义的不同点的结构，该结构布置在可植入阵列的预定义的部分中，该结构包括：

多个式样，每个式样具有预定义的形式并且包括具有与电极阵列周围的解剖组织放置在人体或动物体内时的磁化率不同的磁化率的材料，

每个式样与预定义的不同点之一处于预定义的空间关系。

本发明的有利实施方式可以包括以下特征。

材料可以包括具有选自铁、氧化铁、稀土氧化物和热解碳材料的材料的颗粒。

式样可以包括具有磁化率的材料，该材料的磁化率高于电极阵列周围的解剖组织放置在人体或动物体内时的磁化率。

每个式样可以被隔离并与其他式样隔开。

该结构可以在电极阵列的预定义的部分上形成网格。

预定义的点可以是以下至少之一

-电极触点，

-流体接口，

-几何意义的点。

预定义的形式可以是十字形形式。

预定义的部分可以包括以下至少一项

-顶表面（8），

-后表面，

-边缘，

-拐角。

至少三个式样可以沿着笔直的第一线对齐，并且至少三个式样可以沿着笔直的第二线对齐，第二线垂直于第一线。

该材料可以是聚合物，特别是选自硅橡胶、聚氨酯、聚酰亚胺、环氧树脂、液晶聚合物和聚对二甲苯。