[发明专利]Ag合金溅射靶在审
| 申请号： | 202080083116.X | 申请日： | 2020-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN114761609A | 公开（公告）日： | 2022-07-15 |
| 发明（设计）人： | 林雄二郎;小见山昌三 | 申请（专利权）人： | 三菱综合材料株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C5/06;C22F1/00;C22F1/14 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 辛雪花;周艳玲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | ag 合金 溅射 | ||
【权利要求书】：
1.一种Ag合金溅射靶，其特征在于，
由如下组成的Ag合金构成：含有Ge、In及S且剩余部分为Ag及不可避免的杂质，
所述Ag合金中的S的含量为1质量ppm以上且150质量ppm以下。
2.根据权利要求1所述的Ag合金溅射靶，其特征在于，
所述Ag合金在0.1质量％以上且1.5质量％以下的范围内包含In、在0.1质量％以上且7.5质量％以下的范围内包含Ge。
3.根据权利要求1或2所述的Ag合金溅射靶，其特征在于，
根据舍勒方程式求出的所述Ag合金的微晶直径为以下。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的Ag合金溅射靶，其特征在于，
所述Ag合金含有选自Pd、Pt、Au及Rh中的一种以上，Pd的含量为40质量ppm以下，Pt的含量为20质量ppm以下，Au的含量为20质量ppm以下，Rh的含量为10质量ppm以下，且Pd、Pt、Au及Rh的合计含量为50质量ppm以下。
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