[发明专利]用于改善的热均匀性与轮廓控制的线性灯阵列在审
申请号: | 202080085703.2 | 申请日: | 2020-10-22 |
公开(公告)号: | CN114929949A | 公开(公告)日: | 2022-08-19 |
发明(设计)人: | 布莱恩·伯罗斯;刘树坤;叶祉渊 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | C30B25/10 | 分类号: | C30B25/10;C30B25/08 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 改善 均匀 轮廓 控制 线性 阵列 | ||
本文提供了用于在处理腔室中使用的上反射器组件的方法和设备。在一些实施方式中,一种用于在处理腔室中使用的上反射器组件包括:反射器安装环;及上反射器板,耦接到反射器安装环,并具有上表面和下表面,其中下表面包括多个线性通道,多个线性基本彼此平行地延伸跨过下表面,且其中上反射器板包括空气冷却狭槽,空气冷却狭槽从上表面延伸到下表面。
技术领域
本公开内容的实施方式大体上关于基板处理配备。
背景技术
一些处理基板的方法(例如,外延沉积处理)可能对处理腔室的处理环境中的温度敏感。例如,可能影响处理环境的温度的一种或多种部件可为可能与处理环境进行热交换的腔室壁和/或表面。然而,在外延沉积腔室中缺乏热控制会导致沉积在基板上的材料的厚度和浓度不均匀。
因此,发明人提供了一种用于基板处理系统的加热和温度管理的改进的设备。
发明内容
本文提供了用于在处理腔室中使用的上反射器组件的方法和设备。在一些实施方式中,一种用于在处理腔室中使用的上反射器组件包括:反射器安装环;及上反射器板,上反射器板耦接到反射器安装环,并具有上表面和下表面,其中下表面包括多个线性通道,多个线性通道基本彼此平行地延伸跨过下表面,且其中上反射器板包括空气冷却狭槽,空气冷却狭槽从上表面延伸到下表面。
在一些实施方式中,一种上部灯模块包括:上反射器组件及护罩组件,上反射器组件包括反射器安装环,反射器安装环耦接至上反射器板,上反射器板具有上表面和下表面,其中下表面包括多个线性通道,多个线性通道基本彼此平行地延伸跨过下表面,且其中上反射器板包括空气冷却狭槽,空气冷却狭槽从上表面延伸到下表面,护罩组件包括耦接至灯安装环的外壳体及耦接至灯安装环的多个线性加热灯,其中灯安装环可移除地耦接至反射器安装环,且其中多个线性加热灯在多个线性通道内延伸,以将热量反射离开多个线性通道的侧壁。
在一些实施方式中,一种外延腔室包括:腔室主体,腔室主体耦接到上圆顶和下圆顶以界定外延腔室的处理容积;支撑基座,支撑基座设置在内部容积中以支撑基板;上反射器板,上反射器板在上圆顶上方耦接至腔室主体,并具有上表面和下表面,其中下表面包括多个线性通道,多个线性通道基本上彼此平行地延伸跨过下表面,且其中上反射器板包括空气冷却狭槽,空气冷却狭槽从上表面延伸到下表面;及护罩组件,护罩组件包括灯安装环和耦接到灯安装环的多个线性加热灯,其中多个线性加热灯在多个线性通道内延伸,以将热量朝向上圆顶反射离开多个线性通道的侧壁。
下面描述本公开内容的其他和进一步的实施方式。
附图说明
可通过参考在附图中描绘的本公开内容的说明性实施方式,理解在上面简要地概述并且在下面更详细地讨论的本公开内容的实施方式。然而,附图仅显示了本公开内容的典型实施方式,且因此不应视为对范围的限制,因为本公开内容可允许其他等效实施方式。
图1描绘了根据本公开内容的一些实施方式的处理腔室的示意性侧视图。
图2描绘了根据本公开内容的一些实施方式的处理腔室的局部示意性侧视图。
图3描绘了根据本公开内容的一些实施方式的处理腔室的等距横截面图。
图4描绘了根据本公开内容的一些实施方式的灯夹持机构的等距视图。
图5描绘了根据本公开内容的一些实施方式的灯夹持机构的等距视图。
图6描绘了根据本公开内容的一些实施方式的上部灯模块的局部等距横截面图。
图7描绘了根据本公开内容的一些实施方式的上部灯模块的局部等距横截面图。
为了便于理解,在可能的情况下使用了相同的附图标记来表示附图中共有的相同元件。附图未按比例绘制,并且为清楚起见可被简化。一个实施方式的元件和特征可有益地并入其他实施方式中,而无需进一步叙述。
具体实施方式
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