[发明专利]脉冲宽度扩展装置和电子器件的制造方法在审
申请号: | 202080091363.4 | 申请日: | 2020-02-27 |
公开(公告)号: | CN114902143A | 公开(公告)日: | 2022-08-12 |
发明(设计)人: | 宫本浩孝;若林理 | 申请(专利权)人: | 极光先进雷射株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01S3/10;H01S3/225 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 于英慧;蔡丽娜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 脉冲宽度 扩展 装置 电子器件 制造 方法 | ||
本公开的一个观点的脉冲宽度扩展装置具有偏振分束器和转印光学系统。转印光学系统具有:1/4波长镜对,其包含使脉冲激光的相位偏移1/4波长而进行反射的第一1/4波长镜和使在第一1/4波长镜反射后的脉冲激光的相位偏移1/4波长而进行反射的第二1/4波长镜;以及反射镜对,其被配置于1/4波长镜对的前后的光路或1/4波长镜对之间的光路上。转印光学系统将输入脉冲激光在偏振分束器中的像在1/4波长镜对之间的光路上等倍地转印为第一转印像,将第一转印像在偏振分束器等倍地转印为第二转印像。
技术领域
本公开涉及脉冲宽度扩展装置和电子器件的制造方法。
背景技术
近年来,在半导体曝光装置中,随着半导体集成电路的微细化和高集成化,要求分辨率的提高。因此,从曝光用光源放出的光的短波长化得以发展。例如,作为曝光用的气体激光装置,使用输出波长大约为248nm的激光的KrF准分子激光装置、以及输出波长大约为193nm的激光的ArF准分子激光装置。
KrF准分子激光装置和ArF准分子激光装置的自然振荡光的谱线宽度较宽,大约为350~400pm。因此,在利用使KrF和ArF激光这种紫外线透过的材料构成投影透镜时,有时产生色差。其结果,分辨率可能降低。因此,需要将从气体激光装置输出的激光的谱线宽度窄带化到能够无视色差的程度。因此,在气体激光装置的激光谐振器内,为了使谱线宽度窄带化,有时具有包含窄带化元件(标准具、光栅等)的窄带化模块(Line Narrow Module:LNM)。下面,将谱线宽度被窄带化的气体激光装置称为窄带化气体激光装置。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:美国专利第6067311号
专利文献2:日本特开2006-186046号公报
发明内容
本公开的1个观点的脉冲宽度扩展装置具有:偏振分束器,其使线偏振的脉冲激光中的第一偏振方向的脉冲激光以第一透射率透过,使与第一偏振方向正交的第二偏振方向的脉冲激光以第一反射率反射并以第二透射率透过;以及转印光学系统,其使由偏振分束器反射后的脉冲激光在多个凹面镜反射而返回到偏振分束器,偏振分束器对从外部输入的输入脉冲激光中的以第二透射率透过的第二偏振方向的脉冲激光和从转印光学系统返回的脉冲激光的一部分脉冲激光进行合成并输出,转印光学系统具有:1/4波长镜对,其包含使脉冲激光的相位偏移1/4波长而进行反射的第一1/4波长镜和使在第一1/4波长镜反射后的脉冲激光的相位偏移1/4波长而进行反射的第二1/4波长镜;以及反射镜对,其被配置于1/4波长镜对的前后的光路或1/4波长镜对之间的光路上,转印光学系统将输入脉冲激光在偏振分束器中的像在1/4波长镜对之间的光路上等倍地转印为第一转印像,将第一转印像在偏振分束器等倍地转印为第二转印像。
本公开的另一个观点的电子器件的制造方法包含以下工序:通过激光系统生成被进行脉冲宽度扩展后的脉冲激光,将脉冲激光输出到曝光装置,在曝光装置内在感光基板上曝光脉冲激光,以制造电子器件,该激光系统具有激光装置和脉冲宽度扩展装置,该激光装置产生线偏振的脉冲激光,该脉冲宽度扩展装置具有:偏振分束器,其使线偏振的脉冲激光中的第一偏振方向的脉冲激光以第一透射率透过,使与第一偏振方向正交的第二偏振方向的脉冲激光以第一反射率反射并以第二透射率透过;以及转印光学系统,其使由偏振分束器反射后的脉冲激光在多个凹面镜反射而返回到偏振分束器,偏振分束器对从外部输入的输入脉冲激光中的以第二透射率透过的第二偏振方向的脉冲激光和从转印光学系统返回的脉冲激光的一部分脉冲激光进行合成并输出,转印光学系统具有:1/4波长镜对,其包含使脉冲激光的相位偏移1/4波长而进行反射的第一1/4波长镜和使在第一1/4波长镜反射后的脉冲激光的相位偏移1/4波长而进行反射的第二1/4波长镜;以及反射镜对,其被配置于1/4波长镜对的前后的光路或1/4波长镜对之间的光路上,转印光学系统将输入脉冲激光在偏振分束器中的像在1/4波长镜对之间的光路上等倍地转印为第一转印像,将第一转印像在偏振分束器等倍地转印为第二转印像。
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