[发明专利]FOUP移载装置在审
申请号: | 202080092902.6 | 申请日: | 2020-12-03 |
公开(公告)号: | CN114981947A | 公开(公告)日: | 2022-08-30 |
发明(设计)人: | 藤代祥之 | 申请(专利权)人: | 日商乐华股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;B65G1/00;B65G47/90 |
代理公司: | 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 | 代理人: | 刘卓然 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | foup 装置 | ||
提供一种在与装载端口之间移载FOUP的FOUP移载装置,该FOUP移载装置能够尽可能地减少已经设置的输送装置的改造作业。FOUP移载装置(1‑1、1‑2)设置于具有一个或者更多个装载端口(18‑1、18‑2)的输送装置的装载端口附近,在与装载端口(18‑1、18‑2)之间进行FOUP 3的交接,FOUP移载装置(1‑1、1‑2)具有第一光I/O通信装置(31‑3、31‑4),并且设置成连接有装载端口(18‑1、18‑2)所具有的第二光I/O通信装置(31‑1、31‑2),从而代替上述装载端口(18‑1、18‑2)来进行在装载端口(18‑1、18‑2)与OHT台车(11)之间进行的光I/O通信。
技术领域
本发明涉及设置于装载端口(Load Port)的附近且在与装载端口之间进行FOUP的移载的FOUP移载装置。
背景技术
在半导体芯片的制造工序中需要大量的表面处理工序、检查工序,在半导体制造工厂中,配置有多个对晶圆表面进行各种表面加工、检查的专用的处理装置,晶圆以在各处理装置之间收容于称为FOUP(Front-Opening Unified Pod:前开式晶圆传送盒)的密闭容器中的状态由工序间搬运装置而搬运。各处理装置在前面具有称为EFEM(Equipment FrontEnd Module:设备前端模块)的搬送装置,该EFEM在接收到由称为OHT(Overhead HoistTransport:高架运输器)、AGV(Automated Guided Vehicle:自动导引车)的工序间搬运装置搬运的FOUP后,从FOUP内部取出晶圆,向处理装置搬送。在EFEM中具有一个以上的用于载置FOUP并开闭FOUP的盖的称为装载端口的开闭装置,将由处理装置进行的处理结束后的晶圆向与收容有处理前的晶圆的FOUP不同的FOUP进行搬送。在处理结束后,若从处理装置搬送的晶圆达到规定的片数,则关闭FOUP的盖,FOUP通过OHT向下一工序搬运。
一般而言,处理装置、检查装置所进行的处理工序多种多样,根据处理工序的不同,晶圆的处理所需的时间大幅不同,即使一次处理结束,也未必能够立即将FOUP搬运至下一个工序。因此,半导体制造工厂采用如下方式:将FOUP暂时保管于储料器中,使用工序间搬运装置将FOUP适时地向处理装置搬运。所谓储料器,是设置于半导体制造工厂内,且在具有数十个或一百个以上的架板上保管FOUP的装置,具有保持各FOUP的货架、及在该货架与工序间搬运装置之间搬送FOUP的FOUP搬送机器人。
然而,搬运FOUP的OHT、AGV只能在铺设于半导体制造工厂内的轨道上沿一个方向行驶。其结果是,当处理装置结束晶圆的处理时,在等待OHT、AGV的台车的到达的期间,处理装置在停止处理的状态下待机。处理装置是昂贵的装置,产生这样的不工作时间从生产效率方面来看是很大的负面影响。
因此,以缩短这样的不工作时间为目的,在专利文献1中实施如下对策:在EFEM的附近设置暂时保管FOUP的暂时保管装置,保管多个放入有处理前的晶圆的FOUP,在处理装置的处理工序结束后,不耽搁时间地更换处理前的FOUP和处理结束后的FOUP。然而,为了在已经设置于工厂内且正在运转的EFEM的附近设置暂时保管装置,必须使处理装置长时间停止,在此期间半导体制造工厂的生产能力降低。并且,暂时保管装置保管多个FOUP来进行搬运,因此成为比较大型且高价的装置,导致半导体的生产成本的增大。
另外,作为其它对策,在专利文献2中,在具有两台装载端口的双端口类型的输送装置中追加FOUP移载端口,将该FOUP移载端口所保管的处理前FOUP转移到回收了FOUP的装载端口的载物台上,由此缩短向装载端口的FOUP供给时间。参见图18。FOUP移载端口是比较简单的构造,因此价格低,进而也能够减小空间尺寸,因此认为与上述的暂时保管装置相比成本效益高。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:JP特许第4182521号文献
专利文献2:JP特开2014-160882号公报
发明内容
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造