[发明专利]用于辊运输系统的载体、辊运输系统和具有辊运输系统的真空处理设备

说明书

根据本公开内容的一个方面，提供了一种用于在辊运输轨道(200a、200b)上沿运输方向(X)运输的载体(100)。所述载体(100)包括：第一辊接触表面(120a)，所述第一辊接触表面被配置为将所述载体(100)支撑在所述辊运输轨道(200a)的至少一个第一辊(210a)上；以及第二辊接触表面(120b),所述第二辊接触表面被配置为将载体(100)支撑在所述辊运输轨道(200b)的至少一个第二辊(210b)上；其中所述第一辊接触表面(120a)和所述第二辊接触表面(120b)在所述运输方向(X)上分开，其中在两者间存在空间。根据其他方面，提供了一种辊运输系统和一种真空处理设备。

技术领域

本公开内容的实施方式涉及一种用于在辊运输轨道上运输的载体，尤其是用于在真空处理设备中支撑基板或掩模的载体。本公开内容的进一步实施方式涉及一种真空处理设备，所述真空处理设备具有辊运输轨道，用于运输载体进出真空处理腔室。更特别地，本公开内容的实施方式涉及可用于垂直基板处理(诸如用于显示器生产的大面积基板上的材料沉积)的处理系统的用于运输载体的多种设备和方法。

背景技术

用于在基板上进行层沉积的技术包括例如溅射沉积、物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)和热蒸发。已涂覆基板可用于若干应用和若干技术领域中。例如，已涂覆基板可用于显示装置的领域中。显示装置可用于制造电视机屏幕、计算机显示器、移动电话、其他手持装置等来显示信息。典型地，显示器是通过用不同材料的层堆叠涂覆基板来生产。

为了沉积层堆叠，可使用直列(in-line)处理模块布置。直列处理系统包括多个后续处理模块(诸如沉积模块)以及可选地进一步的处理模块(诸如清洁模块和/或蚀刻模块)，其中处理方面随后地在处理模块中进行，使得多个基板可在直列处理系统中连续地或准连续地进行处理。

基板或掩模可由载体(即，用于承载基板的承载设备)承载。通常使用运输系统运输载体通过真空系统。运输系统可用于沿一个或多个运输路径运输其上设置有基板的载体。例如，至少两个运输路径可彼此靠近地设置在真空系统中，例如，用于在前进方向上运输载体的第一运输路径和用于在与前进方向相反的返回方向上运输载体的第二运输路径。替代地，可提供单一运输路径，用于在前进方向和返回方向中的任一个方向上运输载体。

获得通过真空系统的基板载体和/或掩模载体的准确且平稳的运输是有挑战性的。例如，在基于辊的运输系统中，即使是稍微错位的辊也可能导致被运输的载体冲击错位的辊，并导致辊的不均匀载荷。特定辊上的增加的载荷可能会导致颗粒产生的增加，从而使制造工艺劣化。因此，需要的是在减少或最小化颗粒产生的情况下在处理系统中运输载体。另外，挑战例如是以低成本提供用于高温真空环境的稳健载体运输系统。

因此，存在用于运输载体的改善的设备和方法以及提供克服现有技术的至少一些问题的改善的真空处理系统的持续需求。

发明内容

鉴于上文，提供了用于在辊运输轨道上运输的载体，以及具有用于将所述载体运输进出真空处理腔室的辊运输轨道的真空处理设备。根据独立权利要求、说明书和附图，其他的方面、优点和特征变得显而易见。

根据本公开内容的一个方面，提供了一种用于在辊运输轨道上沿运输方向运输的载体，所述载体包括：第一辊接触表面，所述第一辊接触表面被配置为在所述辊运输轨道上的至少一个第一辊上支撑所述载体，以及第二辊接触表面，所述第二辊接触表面被配置为在所述辊运输轨道上的至少一个第二辊上支撑所述载体；其中所述第一辊接触表面和所述第二辊接触表面在运输方向上分开，其中在所述第一辊接触表面和所述第二辊接触表面之间存在空间。

根据本公开内容的另一方面，提供了一种辊运输系统。所述辊运输系统包括辊运输轨道和根据本公开内容多个方面的载体，所述辊运输轨道包括多个辊。

根据本公开内容的又一方面，提供了一种用于将材料沉积在基板上的真空处理设备。所述真空处理设备包括至少一个真空处理腔室和根据本公开内容的多个方面的辊运输系统，所述辊运输系统用于运输根据本公开内容的多个方面的载体进出所述至少一个真空处理腔室。