[发明专利]一种耐介质低析出高阻隔涂布膜、制备方法在审
申请号: | 202110004105.4 | 申请日: | 2021-01-04 |
公开(公告)号: | CN112795249A | 公开(公告)日: | 2021-05-14 |
发明(设计)人: | 林武辉;符坚;李志强;周宝鼎 | 申请(专利权)人: | 浙江海顺新材料有限公司 |
主分类号: | C09D133/00 | 分类号: | C09D133/00;C09D167/00;C09D127/08;C09D101/18;C09D127/06;C09D123/12;C09D7/61;C09D7/65;C08J7/04;C08J7/048;B41M1/30;B41M3/00;B05D7/14;B05D7/24 |
代理公司: | 北京远大卓悦知识产权代理有限公司 11369 | 代理人: | 祁云珊 |
地址: | 313000 浙江省湖*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 介质 析出 阻隔 涂布膜 制备 方法 | ||
1.一种耐介质低析出高阻隔涂布膜,其特征在于,从外至内依次包括:
光油涂层,原料包括50~80重量份的耐介质粘结树脂、5~50重量份的含活泼氢的树脂,所述耐介质粘结树脂与所述含活泼氢的树脂发生交联反应;
阻隔基材;
耐介质低析出涂层,原料包括50~80重量份的耐介质热封树脂、10~85重量份的粘结树脂、0.5~1重量份的含活泼氢的树脂,所述耐介质热封树脂与所述含活泼氢的树脂发生交联反应。
2.根据权利要求1所述的一种耐介质低析出高阻隔涂布膜,其特征在于,所述耐介质粘结树脂的羟基值为33~100mgKOH/g,玻璃化温度Tg为30~150℃;所述耐介质热封树脂的羟基值为0~32mgKOH/g,玻璃化温度Tg为10~100℃。
3.根据权利要求2所述的一种耐介质低析出高阻隔涂布膜,其特征在于,所述耐介质粘结树脂选自硝化纤维或羟基丙烯酸树脂或羟基氯醋树脂或含羟基的纤维素树脂或含羟基的PP树脂或含羟基的PE树脂或含羟基的PVDC树脂或含羟基的PVC树脂中至少两种。
4.根据权利要求2所述的一种耐介质低析出高阻隔涂布膜,其特征在于,所述耐介质热封树脂选自硝化纤维或羟基丙烯酸树脂或羟基氯醋树脂或含羟基的纤维素树脂或含羟基的PP树脂或含羟基的PE树脂或含羟基的PVDC树脂或含羟基的PVC树脂中至少一种。
5.根据权利要求1所述的一种耐介质低析出高阻隔涂布膜,其特征在于,所述粘结树脂包括热塑性聚酯树脂或氯醋树脂,分子量为10000~15000,玻璃化温度Tg为10~60℃;所述含活泼氢的树脂包括异氰酸酯固化剂或氨基树脂固化剂。
6.根据权利要求1所述的一种耐介质低析出高阻隔涂布膜,其特征在于,所述光油涂层原料还包括0~5重量份的无机填料。
7.根据权利要求6所述的一种耐介质低析出高阻隔涂布膜,其特征在于,所述无机填料选自流平剂、爽滑剂、开口剂中的至少一种;所述无机填料的粒径为0.1~7μm。
8.根据权利要求1所述的一种耐介质低析出高阻隔涂布膜,其特征在于,所述阻隔基材为单层或多层薄膜结构;所述阻隔基材选自铝箔、镀铝膜、镀氧化物膜、镀硅膜中的任意一种。
9.根据权利要求1所述的一种耐介质低析出高阻隔涂布膜,其特征在于,所述耐介质低析出涂层的包括至少两层涂层。
10.制备如权利要求1-9任意一项所述的一种耐介质低析出高阻隔涂布膜的方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、按重量配比准备所述光油涂层原料,搅拌混合均匀,反应制得所述光油层涂料;
S2、按重量配比准备所述耐介质低析出涂层原料,搅拌混合均匀,反应制得所述述耐介质低析出涂层涂料;
S3、按涂布量在所述阻隔基材一面涂覆或印刷所述光油层涂料,干燥形成所述光油涂层;
S4、按涂布量在所述阻隔基材另一面涂覆或印刷所述耐介质低析出涂层涂料,干燥形成所述耐介质低析出涂层,制得膜本体。
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