[发明专利]一种显示面板及其制备方法、显示装置

说明书

本发明涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。显示面板包括阵列基板、平坦层、阳极单元以及像素阻隔单元。通过半色调掩膜工艺在平坦层上制备若干个凹槽，采用涂布机制备像素阻隔单元时，利用像素阻隔单元的材料的流动性和平坦性填充凹槽，通过调节凹槽的容积，进而减薄像素阻隔单元在阳极单元上的厚度。因此可以避免采用干法刻蚀工艺及曝光工艺对像素阻隔单元进行薄化处理时对阳极单元表面造成损伤，进而避免引起阳极单元表面凸起或剥离以及避免导致显示面板出现暗点，最终提高显示面板的量产良率。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。

背景技术

有机发光显示装置(英文全称：Organic Light-Emitting Diode,简称OLED)又称为有机电激光显示装置、有机发光半导体。OLED的工作原理是：当电力供应至适当电压时，正极空穴与阴极电荷就会在发光层中结合，在库伦力的作用下以一定几率复合形成处于激发态的激子(电子-空穴对)，而此激发态在通常的环境中是不稳定的，激发态的激子复合并将能量传递给发光材料，使其从基态能级跃迁为激发态，激发态能量通过辐射驰豫过程产生光子，释放出光能，产生光亮，依其配方不同产生红、绿和蓝RGB三基色，构成基本色彩。

OLED具有电压需求低、省电效率高、反应快、重量轻、厚度薄，构造简单，成本低、广视角、几乎无穷高的对比度、较低耗电、极高反应速度等优点，已经成为当今最重要的显示技术之一。

如图1所示，目前的显示面板100中包括第一像素阻隔单元101及第二像素阻隔单元102。其中第一像素阻隔单元101设置于同色墨水之间，第二像素阻隔单元102设置于不同颜色的墨水之间。

当采用无机材料制备第一像素阻隔单元101时，通常采用CVD(英文全称：ChemicalVapor Deposition，气相沉积法)在阳极单元表面沉积无机材料，然后通过干法刻蚀(英文全称：Dry etching)对无机材料进行刻蚀，形成第一像素阻隔单元101，但是干法刻蚀会对阳极单元表面造成损伤。

如图2-图4所示，当采用有机材料制备第一像素阻隔单元101时，通常采用涂布机在阳极单元103表面涂布有机材料。由于目前涂布机涂布厚度最薄约为1um，为满足同色墨水之间的铺展均匀性，需要采用曝光工艺对有机材料进行图案化处理，去除部分阳极单元103上的有机材料。然后通过干法刻蚀对有机材料进行薄化处理，形成最终的第一像素单元101。此时会对阳极单元103表面造成损伤，引起阳极单元103表面凸起或剥离，最终导致显示面板100出现暗点，影响显示面板100的量产良率。

发明内容

本发明的目的是提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，其能够解决现有的显示装置的第一像素阻隔单元的制备过程中存在的对阳极单元表面造成损伤，引起阳极单元表面凸起或剥离，导致显示面板出现暗点，影响显示面板的量产良率等问题。

为了解决上述问题，本发明提供了一种显示面板，其包括：阵列基板；平坦层，设置于所述阵列基板上，其远离所述阵列基板的一侧的表面设有若干个间隔设置的凹槽；若干个阳极单元，设置于所述平坦层上，并且延伸覆盖于所述凹槽的侧壁上；以及若干个像素阻隔单元，填充于所述凹槽内，并且延伸覆盖所述凹槽侧壁上的阳极单元以及部分所述平坦层上的阳极单元。

进一步的，其中所述像素阻隔单元远离所述阵列基板的一侧的表面为第一表面，所述第一表面与所述凹槽底面之间的距离范围为1um-1.3um。

进一步的，其中所述阳极单元远离所述阵列基板的一侧的表面为第二表面，所述第一表面与所述第二表面之间的距离小于1um。

进一步的，其中所述平坦层的厚度范围为4um-6um。

进一步的，其中所述凹槽的形状包括弧形、矩形及梯形中的一种或多种。