[发明专利]核反应导致的SEE截面的获取方法、装置、设备及介质

权利要求书

1.一种核反应导致的SEE截面的获取方法，应用于微电子器件的核反应导致的单粒子效应的检测，其特征在于，包括：

获取次级粒子LET谱；

获取重离子SEE截面；以及

根据所述次级粒子LET谱和所述重离子SEE截面获取所述核反应导致的SEE截面；

所述根据所述次级粒子LET谱和所述重离子SEE截面获取所述核反应导致的SEE截面，包括：

获取第一SEE截面；

获取第二SEE截面；

根据所述第一SEE截面和所述第二SEE截面获取所述核反应导致的SEE截面；

其中，所述第一SEE截面为对应于第一材料核反应的核反应导致的SEE截面，所述第二SEE截面为对应于第二材料中多种材料核反应的核反应导致的SEE截面之和。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述获取第一SEE截面，包括：

根据所述次级粒子LET谱，获取所述第一材料的核反应对应的第一注量参数；

根据所述重离子SEE截面和所述第一注量参数，确定对应预设截面规则的第一SEE发生次数；

根据所述第一SEE发生次数，获取所述第一SEE截面。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述获取第二SEE截面，包括：

根据所述次级粒子LET谱，获取所述第二材料的核反应对应的第二注量参数；

根据所述重离子SEE截面和所述第二注量参数，确定对应预设截面规则的第二SEE发生次数；

根据所述第二SEE发生次数，获取所述第二SEE截面。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述第一SEE截面和所述第二SEE截面获取所述核反应导致的SEE截面，包括：

对所述第一SEE截面和所述第二SEE截面进行求和，获取所述核反应导致的SEE截面。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

所述第一材料为硅；

所述第二材料包括钨、铜、钛和铝中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述获取次级粒子LET谱，包括：

通过粒子输运模拟规则，确定与所述第一材料对应的次级粒子LET谱。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述通过粒子输运模拟规则，确定与所述第一材料对应的次级粒子LET谱，包括：

通过粒子输运模拟规则获取第一材料核反应的模拟次级粒子数和模拟LET值；

根据所述模拟次级粒子数和模拟LET值确定预设LET值区间所对应的模拟次级粒子数；以及

根据所述第一材料的特征参数和所述模拟次级粒子数，确定所述次级粒子LET谱。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述获取重离子SEE截面，包括：

基于重离子SEE实验，获取所述重离子SEE截面。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述基于重离子SEE实验，获取所述重离子SEE截面，包括：

检测重离子束流与第一材料之间的核反应所产生的单粒子效应数目；

根据所述重离子束流的粒子注量和单粒子效应数目确定所述重离子SEE截面。