[发明专利]型材缺陷检测方法、装置、电子设备和存储介质在审
申请号: | 202110011670.3 | 申请日: | 2021-01-06 |
公开(公告)号: | CN114720499A | 公开(公告)日: | 2022-07-08 |
发明(设计)人: | 姜海涛;邢辉;张佼;陆树生 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学;昆山晶微新材料研究院有限公司 |
主分类号: | G01N23/2251 | 分类号: | G01N23/2251;G01N23/2055;G01N23/203;G01N23/20058;G01N23/04 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 钟扬飞 |
地址: | 200030 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 缺陷 检测 方法 装置 电子设备 存储 介质 | ||
本申请涉及一种型材缺陷检测方法、装置、电子设备和存储介质,本申请的型材缺陷检测方法包括:获取具有缺陷的型材微观组织图;根据所述具有缺陷的型材微观组织图,分析得到缺陷检测结果;根据所述缺陷检测结果,确定项目检测顺序;根据所述项目检测顺序,进行所述型材的缺陷成因判断流程。故本申请能够改善型材缺陷检测方法,改良型材制造工艺,从而提高了型材质量。
技术领域
本申请涉及金属制造的技术领域,具体而言,涉及一种型材缺陷检测方法、装置、电子设备和存储介质。
背景技术
型材(extrudate)是铁或钢以及具有一定强度和韧性的材料(如塑料、铝、玻璃纤维等)通过轧制、挤出、铸造等工艺制成的具有一定几何形状的物体。其中,在型材制造过程中的每一个环节所得的产物,即中间产物或者最终产物均可以叫做型材。
随着型材结构的发展,对于型材的质量要求越来越高,例如:对于铝合金型材的晶粒细化要求和晶粒均质化要求越来越高,因此对于铝合金型材的缺陷率要求也越来越高。
但是传统的型材制造方法在型材产生缺陷后无法得知缺陷的成因,也无法改良型材制造工艺,从而影响了型材质量的提高。
发明内容
本申请的目的是提供一种型材缺陷检测方法、装置、电子设备和存储介质,其能够改善型材缺陷检测方法,改良型材制造工艺,从而提高了型材质量。
为了实现上述目的,
第一方面,本发明提供一种型材缺陷检测方法,包括:
获取具有缺陷的型材微观组织图;
根据所述具有缺陷的型材微观组织图,分析得到缺陷检测结果;
根据所述缺陷检测结果,确定项目检测顺序;
根据所述项目检测顺序,进行所述型材的缺陷成因判断流程。
于一实施例中,所述根据所述具有缺陷的型材微观组织图,分析得到缺陷检测结果,包括:
将所述具有缺陷的型材微观组织图输入第一预设模型;
利用所述第一预设模型,对所述具有缺陷的型材微观组织图进行图像与缺陷的相关性分析;
根据所述图像与缺陷的相关性分析结果,得到所述缺陷检测结果。
于一实施例中,所述缺陷检测结果包括:晶粒差异和第二相差异。
于一实施例中,所述根据所述缺陷检测结果,确定项目检测顺序,包括:
将所述缺陷检测结果输入第二预设模型;
利用所述第二预设模型,对所述缺陷检测结果进行缺陷与待测项目的相关性分析;
根据所述缺陷与待测项目的相关性分析结果,确定所述项目检测顺序。
于一实施例中,根据所述项目检测顺序,进行所述型材的缺陷成因判断流程,包括:
根据所述项目检测顺序,进行初始项目检测;
判断所述缺陷是否与所述初始项目相关;
若所述缺陷与所述初始项目无关,则根据所述项目检测顺序,进行下一待测项目的检测;
若所述缺陷与所述初始项目有关,则调整所述初始项目的相关参数;
根据所述调整的相关参数,对所述初始项目进行重新检测;
判断所述初始项目的缺陷成因是否消除;
若所述初始项目的缺陷成因没有消除,则继续调整所述初始项目的相关参数;
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