[发明专利]应用于高精度逐次逼近型ADC的电容失配和失调电压校正方法有效

专利信息
申请号: 202110017809.5 申请日: 2021-01-07
公开(公告)号: CN112803946B 公开(公告)日: 2022-08-30
发明(设计)人: 何乐年;张啸蔚;郝允强;奚剑雄 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: H03M1/10 分类号: H03M1/10;H03M1/46
代理公司: 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 代理人: 王琛
地址: 310013 浙江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 应用于 高精度 逐次 逼近 adc 电容 失配 失调 电压 校正 方法
【说明书】:

发明公开了一种应用于高精度逐次逼近型ADC的电容失配和失调电压校正方法,该方法在传统SAR ADC结构的基础上增加了校正DAC以及对应的逻辑控制电路,在芯片上电一段时间内,通过对校正DAC和主DAC的开关控制,计算、存储电容失配和比较器失调的信息,并在正常工作模式中,将存储器中的偏差信息读入到校正DAC中,以模拟量的形式对偏差进行补偿。本发明方法包含了对每一位电容失配的校正以及比较器失调校正,可以通过改变校正DAC的电容规模,改变校正的精度,使其符合高精度SAR ADC的设计需求,可以广泛应用于高精度SAR ADC的电路设计。

技术领域

本发明属于模拟数字转换器(Analog-to-Digital Converter,ADC)技术领域,具体涉及一种应用于高精度逐次逼近型ADC的电容失配和失调电压校正方法。

背景技术

模拟数字转换器是将模拟信号转换成数字信号的核心模块,它广泛应用于消费电子、军工、航空航天和工业等领域,完成A/D转换的工作。ADC根据不同的工作方式可分为快闪型(Flash)、流水线型(Pipeline)、积分型(Sigma-Delta)、逐次逼近型(SAR);不同的ADC应用于不同的领域,性能各异。

Flash ADC结构简单、转换速度快,但是功耗高,适用于高速低精度领域;PipelineADC是由多个ADC级联而成,以流水线的形式工作,每一级都包括采样保持电路、低分辨率ADC、数字模拟转换器(Digital-to-Analog Converter,DAC)以及求和电路,具有线性度好和失调低等优点,但是整数倍级间增益难以控制,功耗高,应用于高速高精度领域;Sigma-Delta ADC精度比其它类型的ADC都要高,速度一般低于其它ADC,具有高分辨率、低噪声、低功耗等优点,一般应用于低速高精度领域。

SAR ADC在功耗、速度、精度方面实现了很好的均衡,被广泛应用于高精度低功耗小尺寸领域,例如可穿戴设备、频谱分析仪、数据采集器等。得益于CMOS工艺的发展,目前SAR ADC的采样率可以达到上百MHz,功耗可以低至nW级别,精度可以达到14~16bit,具有明显的功耗、效率综合优势,是应用最为广泛的ADC架构之一。

如图1所示,SAR ADC包括四个部分:采样保持电路、数字模拟转换器、比较器和SAR逻辑。采样保持电路采样模拟输入电压,与DAC的初始值VFS/2(VFS为满量程电压)通过比较器进行比较,如果模拟输入电压大于DAC的输出电压,则当前位的编码为1,DAC的开关状态保持不变;如果模拟输入电压小于DAC的输出电压,则当前位的编码为0,DAC的开关状态返回至动作之前;然后SAR逻辑控制移至下一位,再一次改变DAC的开关状态,然后与模拟输入电压进行比较,如此反复,直到完成最后一位的比较,获得全部A/D转换编码。SAR ADC工作原理的核心思想是二分法,每次DAC输出电压的变化为1/2n,逐次逼近模拟输入电压,实现A/D转换。

目前使用较为广泛的SAR ADC是基于电荷重分配原理进行实现的,这种类型的SARADC的DAC模块没有静态功耗,切换的动态功耗也比较小,并且结构与采样保持电路的开关电容结构兼容,能够简化电路设计;但是工艺偏差造成的电容失配会影响ADC的线性度,在高精度以及先进工艺的设计中,影响更为明显,因此需要采用校正算法对电容失配造成的误差进行修正。

校正一般有两种分类方法,一种分为模拟校正和数字校正,另一种分为前台校正和后台校正。模拟校正是指通过改变电容阵列的电容值来调整当前位的电容权重,实现编码校正;数字校正是指通过改变当前位的数字权重来改变输出编码;前台校正是指在芯片上电后的一段时间内对电容的权重进行校正,校正完成之后再进行正常的转换工作;后台校正是指在芯片正常工作时同步进行校正工作;两种分类方法一般形成四种校正方案:模拟前台校正、模拟后台校正、数字前台校正、数字后台校正。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江大学,未经浙江大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110017809.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top