[发明专利]一种制备纳米晶磁芯的热处理方法有效
申请号: | 202110020308.2 | 申请日: | 2021-01-07 |
公开(公告)号: | CN112831641B | 公开(公告)日: | 2021-11-23 |
发明(设计)人: | 李雪莲;潘琳茹;王丽 | 申请(专利权)人: | 山东大学 |
主分类号: | C21D9/00 | 分类号: | C21D9/00;H01F41/02;C21D1/26;C21D6/00 |
代理公司: | 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 | 代理人: | 王素平 |
地址: | 264209 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 制备 纳米 晶磁芯 热处理 方法 | ||
1.一种制备纳米晶磁芯的热处理方法,包括步骤如下:
将淬态铁基非晶合金带材卷绕成环状磁芯;围绕环状磁芯的外周设置有铜带卷,所述铜带卷内侧与环状磁芯外侧的间距为0.5~1mm;所述的环状磁芯与铜带卷的厚度比为2.5~4:1;
之后置于石英管中,抽真空,再将石英管置于升温至退火温度的退火炉中,进行保温,所述的保温时间为5~25min;保温结束后,随炉冷却至563K~583K,之后水冷降温至室温,拆掉铜带卷,得到纳米晶磁芯。
2.根据权利要求1所述的制备纳米晶磁芯的热处理方法,其特征在于,所述的环状磁芯的厚度为2mm。
3.根据权利要求1所述的制备纳米晶磁芯的热处理方法,其特征在于,所述的铜带卷是由铜带材绕制而成,所述铜带材的厚度为0.1mm;所述的铜带卷的高度与环状磁芯的高度相同。
4.根据权利要求1所述的制备纳米晶磁芯的热处理方法,其特征在于,所述的升温速率为100K~200K/min。
5.根据权利要求1所述的制备纳米晶磁芯的热处理方法,其特征在于,所述的退火温度为(
6.根据权利要求1所述的制备纳米晶磁芯的热处理方法,其特征在于,所述的保温时间为5~20min。
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