[发明专利]一种光轴偏转角度检测方法、装置、设备和介质

权利要求书

1.一种光轴偏转角度检测方法，其特征在于，所述方法包括：

获取两张原始图片；其中，所述两张原始图片是由同一拍摄设备在同一目标位置以不同拍摄角度对棋盘格进行拍摄获得的，且所述两张原始图片中的每一张原始图片的图像中心均处于对应的棋盘格图像上；

获取所述每一张原始图片的图像中心与所述棋盘格图像的两条相邻边缘之间的方格图像边界的第一数量和第二数量；

根据所述第一数量和所述第二数量，确定所述拍摄设备拍摄所述两张原始图片时所述拍摄设备的光心与所述棋盘格的两条相邻边缘之间的第一距离和第二距离；

根据所述目标位置的参数信息、所述第一距离和所述第二距离，确定所述不同拍摄角度之间的偏转角度值，以检测所述拍摄设备的偏转角度是否合格。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一数量是按照如下方式获得：

对所述每一张原始图片进行水平方向的边缘检测，得到水平方向上的第一单像素边缘线；

获取所述图像中心与所述棋盘格图像的两条相邻边缘中的第一边缘之间的所述第一单像素边缘线的第一数量。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述获取所述图像中心与所述棋盘格图像的两条相邻边缘中的第一边缘之间的所述第一单像素边缘线的第一数量，具体包括：

当所述图像中心未处于所述第一单像素边缘线上时，确定第一占比和第一基础数量，并将所述第一占比与所述第一基础数量之和作为所述第一数量；其中，所述第一占比是指第三距离与所述图像中心所处的方格图像边长的比值；所述第三距离是指所述图像中心在朝向所述第一边缘的方向上最近的一根所述第一单像素边缘线与所述图像中心之间的距离；所述第一基础数量是指所述图像中心与所述棋盘格图像的第一边缘之间的所述第一单像素边缘线的数量减1；

当所述图像中心处于所述第一单像素边缘线上时，确定第二基础数量，并将所述第二基础数量作为所述第一数量；其中，所述第二基础数量是指所述图像中心与所述棋盘格图像的第一边缘之间的所述第一单像素边缘线的数量。

4.如权利要求2或3所述的方法，其特征在于，所述第一距离是按照如下方式获得：

根据所述第一数量和所述棋盘格的方格边长，确定所述第一距离。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二数量是按照如下方式获得：

对所述每一张原始图片进行垂直方向的边缘检测，得到垂直方向上的第二单像素边缘线；

获取所述图像中心与所述棋盘格图像的两条相邻边缘中的第二边缘之间的所述第二单像素边缘线的第二数量。

6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述获取所述图像中心与所述棋盘格图像的两条相邻边缘中的第二边缘之间的所述第二单像素边缘线的第二数量，具体包括：

当所述图像中心未处于所述第二单像素边缘线上时，确定第二占比和第三基础数量，并将所述第二占比与所述第三基础数量之和作为所述第二数量；其中，所述第二占比是指第四距离与所述图像中心所处的方格图像边长的比值；所述第四距离是指所述图像中心在朝向所述第二边缘的方向上最近的一根所述第二单像素边缘线与所述图像中心之间的距离；所述第三基础数量是指所述图像中心与所述棋盘格图像的第二边缘之间的所述第二单像素边缘线的数量减1；

当所述图像中心处于所述第二单像素边缘线上时，确定第四基础数量，并将所述第四基础数量作为所述第二数量；其中，所述第四基础数量是指所述图像中心与所述棋盘格图像的第二边缘之间的所述第二单像素边缘线的数量。

7.如权利要求5或6所述的方法，其特征在于，所述第二距离是按照如下方式获得：

根据所述第二数量和所述棋盘格的方格边长，确定所述第二距离。