[发明专利]集成电路

权利要求书

1.一种集成电路，其特征在于，包括：

一第一图案金属层，包括在一第一方向上延伸的复数个金属轨道，其中该些金属轨道中的每一者与其相邻者通过一第一间距分离开；

一第二图案金属层，形成于该第一图案金属层之上，其中该第二图案金属层包括在该第一方向上延伸的第二复数个金属轨道，其中该些金属轨道中的每一者与其相邻者通过一第二间距分离开，且其中该第二复数个金属轨道少于9个金属轨道；

一第三图案金属层，安置在该第一图案金属层与该第二图案金属层之间，该第三图案金属层包括：

一第一金属轨道区段，在垂直于该第一方向的一第二方向上延伸，其中该第一金属轨道区段与该第一图案金属层的该些金属轨道中的至少一第一者重叠，其中该第一金属轨道区段具有在该第一方向上延伸的一第一边缘；

一第二金属轨道区段，在该第二方向上延伸，其中该第二金属轨道区段与该第一图案金属层的该些金属轨道中的至少一第二者重叠，其中该第二金属轨道区段具有面向该第一金属轨道区段的该第一边缘的一第二边缘，且其中该第二金属轨道区段具有与该第二边缘相对的一第三边缘；以及

一第三金属轨道区段，在该第二方向上延伸，其中该第三金属轨道区段与该第一图案金属层的该些金属轨道中的至少一第三者重叠，其中该第三金属轨道区段具有面向该第二金属轨道区段的该第三边缘的一第四边缘；

其中该集成电路在该第二方向上是由一双单元高度限定，且其中该些金属轨道、该第二复数个金属轨道中的每一者及该第一金属轨道区段、该第二金属轨道区段及该第三金属轨道区段中的每一者的至少一部分是在该双单元高度以内。