[发明专利]一种掩膜板

权利要求书

1.一种掩膜板，应用于曝光机，其特征在于，所述掩膜板包括：遮光层，所述遮光层包括透光图案，所述透光图案包括若干个缝隙，每一所述缝隙至少包括两条相互平行的第一边，以及和两条所述第一边的相同一端连接的第一侧边；所述第一侧边呈弧状；所述第一侧边向所述透光图案的方向凹设有多个凹槽，所述第一侧边呈波纹状；所述凹槽的宽度数值远小于所述曝光机解析度的数值。

2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，每一所述凹槽的大小和间距根据曝光机解析度以及光阻解析度而定。

3.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述凹槽的宽度范围为0.2um至6um。

4.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板还包括基底层，所述基底层呈透明状。

5.根据权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述基底层的材质为石英或玻璃。

6.根据权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述遮光层包括第一遮光层和第二遮光层，所述第一遮光层位于所述基底层和所述第二遮光层之间。

7.根据权利要求6所述的掩膜板，其特征在于，所述第一遮光层的材质为铬，所述第二遮光层的材质为氧化铬。

8.根据权利要求6所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板还包括光刻胶层，所述第二遮光层位于所述第一遮光层和所述光刻胶层之间。

9.根据权利要求8所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板还包括保护层，所述保护层覆于所述光刻胶层上远离所述第二遮光层的一面上。