[发明专利]一种掩膜板

说明书

本申请实施例公开了一种掩膜板，应用于曝光机，所述掩膜板包括遮光层，所述遮光层包括透光图案，所述透光图案包括若干个缝隙，每一所述缝隙至少包括两条相互平行的第一边，以及和两条所述第一边的相同一端连接的第一侧边，所述第一侧边设置有多个凹槽，呈波纹状。通过上述方式，使得在应用时，通过所述凹槽的衍射光叠加不能对光阻产生作用，弧形衍射光叠加区的衍射光能量和线性衍射光叠加区的衍射光能量相当，保证在削弱衍射光叠加现象的同时不影响弧形区域图型的平滑性，实现taper角均匀。

技术领域

本申请涉及掩膜板技术领域，具体涉及一种掩膜板。

背景技术

曝光机，是指通过开启灯光发出UVA波长的紫外线，将胶片或者其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的机械设备。掩膜板是曝光机的一个重要组成部分，掩膜板又称为光罩，是由石英玻璃作为衬底，在其上面镀上一层金属铬和感光胶，成为一种感光材料，把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似曝光后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影定位，通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻。

掩膜板透光图形是掩膜板的关键部分，透光图形包括弧形衍射光叠加区和线性衍射光叠加区，目前，通常将掩膜板图形的弧形衍射光叠加区的形状设置为圆弧形，使得弧形衍射光叠加区的衍射光能量相比线性衍射光叠加区的强，导致taper角存在差异，不均匀。

发明内容

本申请实施例提供一种taper角均匀的掩膜板。

一种掩膜板，应用于曝光机，包括：遮光层，包括透光图案，所述透光图案包括若干个缝隙，每一所述缝隙至少包括两条相互平行的第一边，以及和两条所述第一边的相同一端连接的第一侧边；所述第一侧边向所述遮光层的方向凹设有多个凹槽，所述第一侧边呈波纹状。

可选的，在一些实施例中，每一所述凹槽的大小和间距根据曝光机解析度以及光阻解析度而定。

可选的，在一些实施例中，所述凹槽的宽度范围为0.2um至6um。

可选的，在一些实施例中，所述凹槽的宽度数值远小于所述曝光机解析度的数值。

可选的，在一些实施例中，所述掩膜板还包括基底层，所述基底层呈透明状。

可选的，在一些实施例中，所述基底层的材质为石英或玻璃。

可选的，在一些实施例中，所述遮光层包括第一遮光层和第二遮光层，所述第一遮光层位于所述基底层和所述第二遮光层之间。

可选的，在一些实施例中，所述第一遮光层的材质为铬，所述第二遮光层的材质为氧化铬。

可选的，在一些实施例中，所述掩膜板还包括光刻胶层，所述第二遮光层位于所述第一遮光层和所述光刻胶层之间。

可选的，在一些实施例中，所述掩膜板还包括保护层，所述保护层覆于所述光刻胶层上远离所述第二遮光层的一面上。

本申请实施例所提供的一种掩膜板，包括遮光层，所述遮光层包括透光图案，所述透光图案包括若干个缝隙，每一所述缝隙至少包括两条相互平行的第一边，以及和两条所述第一边的相同一端连接的第一侧边，所述第一侧边设有多个其次，所述第一侧边呈波纹状。通过上述方式，使得在应用时，通过所述凹槽的衍射光叠加不能对光阻产生作用，弧形衍射光叠加区的衍射光能量和线性衍射光叠加区的衍射光能量相当，保证在削弱衍射光叠加现象的同时不影响弧形区域图型的平滑性，实现taper角均匀。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。