[发明专利]电子装置及电子装置的制作方法

权利要求书

1.一种电子装置，其特征在于，包括显示组件和发声组件，所述显示组件包括第一基板、第二基板和设置于所述第一基板和所述第二基板之间的显示层，所述第一基板具有一体成型的第一部分和第二部分；

所述发声组件包括：

金属氧化层，设置于所述第一部分；

金属层，具有一体成型的第三部分和第四部分，所述第三部分设置于所述金属氧化层，所述第四部分和第二部分相对、且相互间隔形成一发声微腔，所述发声微腔包括多个间隔的子发声微腔；和

激励器，设置于所述第三部分和第四部分，以驱动所述第四部分振动而发出声音；

其中，所述激励器和所述金属层覆盖所述显示组件。

2.根据权利要求1所述的电子装置，其特征在于，所述金属氧化层设置于所述第一基板位于所述显示组件内部的一面；或者

所述金属氧化层设置于所述第一基板位于所述显示组件外部的一面。

3.根据权利要求2所述的电子装置，其特征在于，所述第一基板是所述显示组件的盖板，所述第二基板是所述显示组件的TFT基板；或者

所述第一基板是所述显示组件的TFT基板，所述第二基板是所述显示组件的盖板。

4.根据权利要求1所述的电子装置，其特征在于，所述金属氧化层包括一体成型的第五部分和第六部分，所述第五部分连接所述第一部分和所述第三部分，所述第六部分设置于所述第二部分，且与所述第四部分通过所述发声微腔相互间隔。

5.根据权利要求1至4任一项所述的电子装置，其特征在于，所述金属层开设有在所述金属层厚度方向贯穿所述金属层的通孔，所述通孔与所述发声微腔连通。

6.根据权利要求5所述的电子装置，其特征在于，所述通孔包括多个间隔设置的子通孔，每一所述子发声微腔与至少一所述子通孔连通。

7.一种电子装置的制作方法，其特征在于，包括：

提供一显示组件，所述显示组件包括第一基板、第二基板和设置于所述第一基板和所述第二基板之间的显示层，所述第一基板具有一体成型的第一部分和第二部分；

在所述第一部分和第二部分上依次形成金属氧化层、金属层和保护层，所述金属层具有一体成型的第三部分和第四部分，所述第三部分和所述第一部分相对，所述第四部分和所述第二部分相对；

对所述金属层进行第一刻蚀处理，以刻蚀未被所述保护层保护的金属层；

对所述金属氧化层进行第二刻蚀处理，以刻蚀掉位于所述第四部分和第二部分之间的所述金属氧化层，以使所述第四部分和所述第二部分相互间隔形成一发声微腔；

剥离所述保护层；

在所述第三部分和所述第四部分设置激励器，以驱动所述第四部分振动而发出声音。

8.根据权利要求7所述的电子装置的制作方法，其特征在于，对所述金属氧化层进行第二刻蚀处理，包括：

利用刻蚀液对所述金属氧化层进行湿法刻蚀处理；

其中，所述刻蚀液为PAN酸、磷酸、醋酸、硝酸和过氧化氢中的一种，其中，所述PAN酸为由磷酸、醋酸和硝酸混合而成的酸。

9.根据权利要求7或8所述的电子装置的制作方法，其特征在于，制作所述金属氧化层的材料包括氧化铟锌、氧化钼和氧化铟锡中的一种；

制作所述金属层的材料包括钛、钼钛、钼铌、钨、钛钨和钼钽中的一种。

10.一种电子装置的制作方法，其特征在于，包括：

提供一显示组件，所述显示组件包括第一基板、第二基板和设置于所述第一基板和所述第二基板之间的显示层，所述第一基板具有一体成型的第一部分和第二部分；

在所述第一部分和第二部分上依次形成金属氧化层、金属层和保护层，所述金属层具有一体成型的第三部分和第四部分，所述第三部分和所述第一部分相对，所述第四部分和所述第二部分相对；

对所述金属层进行第一刻蚀处理，以刻蚀未被所述保护层保护的金属层；

对所述金属氧化层进行第二刻蚀处理，以刻蚀掉位于所述第四部分和第二部分之间的部分所述金属氧化层，以在所述第二部分上形成所述金属氧化层的第六部分，且所述第六部分与所述第四部分相互间隔形成一发声微腔，所述发声微腔包括多个间隔的子发声微腔；

剥离所述保护层；

在所述第三部分和所述第四部分设置激励器，以驱动所述第四部分振动而发出声音，所述激励器和所述金属层覆盖所述显示组件。