[发明专利]光蚀刻系统以及液滴控制方法

权利要求书

1.一种光蚀刻系统，其特征在于，包含：

一液滴产生器，配置以输出多个液滴的一流；

一液滴接收器，定位以接收该些液滴；

一激光器，配置以照射该些液滴；

一收集器，配置以自该些液滴接收一极紫外辐射且反射该极紫外辐射以用于一光蚀刻制程；

一充电电极，定位在该液滴产生器与该液滴接收器之间；

一反电极，相对于该些液滴的一行进方向定位在该充电电极下游；以及

一控制系统，配置以向该充电电极施加一第一电压且向该反电极施加一第二电压，该第一电压经选择以在该些液滴邻近通过该充电电极时向该些液滴给予一净电荷，该第二电压经选择以在该些液滴邻近通过该反电极时使该些液滴减速。

2.根据权利要求1所述的光蚀刻系统，其特征在于，该第一电压及该第二电压具有一相同极性。

3.根据权利要求2所述的光蚀刻系统，其特征在于，该第二电压具有比该第一电压大的一量值。

4.根据权利要求1所述的光蚀刻系统，其特征在于，进一步包含：一液滴感测器，配置以产生指示该些液滴在该液滴接收器内的一速率的多个感测器信号。

5.一种液滴控制方法，其特征在于，包含：

自一液滴产生器输出多个液滴的一流；

用一激光器照射该些液滴；

将该些液滴接收在一液滴接收器中；

在该液滴接收器上游在该些液滴中产生一净电荷；以及

通过在该液滴接收器内产生一电场来降低该些液滴在该液滴接收器内的一速率。

6.根据权利要求5所述的液滴控制方法，其特征在于，在该些液滴中产生该净电荷包括向定位在该液滴接收器上游的一充电电极施加一第一电压。

7.根据权利要求6所述的液滴控制方法，其特征在于，产生该电场包括向一反电极施加一第二电压。

8.根据权利要求7所述的液滴控制方法，其特征在于，进一步包含通过用该激光器照射该些液滴来自该些液滴产生一极紫外辐射。

9.一种液滴控制方法，其特征在于，包含：

用一液滴产生器输出多个液滴；

通过一激光器照射该些液滴来产生一极紫外辐射；

通过向定位在邻近于该些液滴的一路径的一充电电极施加一第一电压来在该些液滴中诱导一净电荷；以及

通过向定位在该充电电极下游的一反电极施加一第二电压来降低该些液滴的一速率。

10.根据权利要求9所述的液滴控制方法，其特征在于，进一步包含：

产生指示该些液滴在该液滴接收器内的一速率的多个感测器信号；

将该些感测器信号传递到一控制系统；以及

用该控制系统基于该些感测器信号来调整该第一电压及该第二电压中的一或二者。