[发明专利]一种多紧缩场测量系统和方法

权利要求书

1.一种多紧缩场测量系统，其特征在于，包括微波暗室和位于微波暗室内的第一反射面、第二反射面、第一直线导轨、第二直线导轨、第一反射面方位转轴、第二反射面方位转轴；

第一反射面方位转轴驱动第一反射面转动，并与第一直线导轨连接，使第一反射面沿第一直线导轨运动；

第二反射面方位转轴驱动第二反射面转动，并与第二直线导轨连接，使第二反射面沿第二直线导轨运动；

第一直线导轨和第二直线导轨的延长线相交；以测试点为中心移动第一反射面和第二反射面，在馈源作用下产生多个方位的来波，生成覆盖测试点的紧缩场静区；

以静区的中心点为中心，沿所述第一直线导轨可将第一反射面的中心与静区中心的连线旋转60°，通过第一反射面方位转轴旋转使第一反射面口面朝向静区中心；

以静区的中心点为中心，沿所述第二直线导轨可将第二反射面的中心与静区中心的连线旋转60°，通过第二反射面方位转轴旋转使第二反射面口面朝向静区中心；

第一反射面与第二反射面初始位置与静区的中心点连线构成的水平夹角为30°；

以微波暗室长度L方向为X轴方向，室宽度W方向为Y轴方向，高度H方向为Z轴方向；第一直线导轨X轴夹角为30°，第二直线导轨与X轴典型夹角为60°，且两夹角方向相反；

静区为圆柱体，底面半径为r，高为g；静区尺寸与微波暗室尺寸之间的约束关系为：L≥5*g， W≥8*r，H≥8*r。

2.根据权利要求1所述的多紧缩场测量系统，其特征在于，

第一反射面和第二反射面分别位于位置1和位置2处时，静区内被测设备接收到的来波夹角为30°；

第一反射面和第二反射面分别位于位置1和位置4或分别位于位置3和位置2时，静区内被测设备接收到的来波夹角为90°；第一反射面和第二反射面分别位于位置3和位置4时，静区内被测设备接收到的来波夹角为150°。

3.根据权利要求1~2任意一项所述的多紧缩场测量系统，其特征在于，所述第一反射面和所述第二反射面为同样的卷边紧缩场反射面，反射面口面典型尺寸为400~600mm。

4.根据权利要求1~2任意一项所述的多紧缩场测量系统，其特征在于，第一反射面方位面转轴和第二反射面方位面转轴为中心机械转轴，可分别将反射面旋转，旋转角度在0°~360°。

5.根据权利要求1~3任意一项所述的多紧缩场测量系统，其特征在于，第一紧缩场馈源与第二紧缩场馈源均为双极化宽带馈源，频率范围覆盖5G FR2频率范围；两馈源由极化选择开关控制极化翻转，两馈源分别连接一路射频路和一个开关控制路。

6.一种多紧缩场测量方法，使用权利要求1~5任意一项所述的系统，其特征在于，包含以下步骤：

所述的第一直线导轨和第二直线导轨支撑反射面沿直线移动；

旋转第一反射面方位转轴和第二反射面方位转轴，使第一反射面和第二反射面朝向测试点；

通过馈源、第一反射面和第二反射面的作用，模拟多个方向的基站来波，生成覆盖测试点的紧缩场静区。

7.根据权利要求6所述的多紧缩场测量方法，其特征在于，

以静区中心点为中心，两反射面初始夹角为30°，第一反射面中心围绕静区中心可移动的角度为60°；第二反射面中心围绕静区中心可移动的角度为60°，实现典型角度30°，60°，90°，120°，150°和其他任意角度的基站对模拟测试。