[发明专利]显示装置的制造装置及制造方法在审
申请号: | 202110056085.5 | 申请日: | 2021-01-15 |
公开(公告)号: | CN114068626A | 公开(公告)日: | 2022-02-18 |
发明(设计)人: | 林东彦;具光骏;金桢穆;金泳植;金泂允;朴原雄 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32 |
代理公司: | 北京金宏来专利代理事务所(特殊普通合伙) 11641 | 代理人: | 朴英淑 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示装置 制造 装置 方法 | ||
1.一种显示装置的制造装置,包括:
工作台,支承基板;
移动部,使所述工作台沿着第一方向移动;
激光束源,射出原始激光束;
光学单元,配置在所述原始激光束的行进路径上,并将所述原始激光束加工成在与所述第一方向交叉的第二方向上延伸的线激光束;
光束阻断单元,能够沿着所述第二方向移动,并且能够阻断所述线激光束中的一部分;以及
光束消除单元,消除被所述光束阻断单元阻断的所述线激光束的一部分。
2.根据权利要求1所述的显示装置的制造装置,其中,
所述光束阻断单元包括反射所述线激光束的一部分的反射面,所述光束阻断单元包括被配置成彼此远离且彼此平行的第一光束阻断单元和第二光束阻断单元。
3.根据权利要求1所述的显示装置的制造装置,其中,
所述光束阻断单元由多级构成,并且能够沿着所述第二方向伸缩。
4.根据权利要求1所述的显示装置的制造装置,其中,
随着所述光束阻断单元在所述第二方向上进行直线运动,确定所述线激光束的阻断区域。
5.根据权利要求2所述的显示装置的制造装置,其中,
所述光束消除单元包括:
开口部,收纳被所述光束阻断单元的所述反射面反射的所述线激光束的一部分;以及
内部空间,由多次反射被收纳的所述线激光束的一部分的内表面定义该内部空间。
6.根据权利要求5所述的显示装置的制造装置,其中,
所述内表面包括凹凸。
7.根据权利要求1所述的显示装置的制造装置,其中,
所述光束消除单元包括彼此对应的第一消除板和第二消除板,
所述第一消除板和所述第二消除板形成锐角,使得所述第一消除板与所述第二消除板之间的空间越是朝向一方向越减少。
8.根据权利要求7所述的显示装置的制造装置,其中,
所述第一消除板和所述第二消除板的彼此相向的表面包括凹凸。
9.根据权利要求1所述的显示装置的制造装置,还包括:
冷却单元,配置在所述光束消除单元的外侧。
10.一种显示装置的制造方法,包括:
在基板上形成非晶硅层的步骤;
使形成有所述非晶硅层的所述基板在与所述基板的一面平行的虚拟的平面上以第一角度旋转的步骤;
在使所述基板沿着第一方向移动的期间,向所述非晶硅层上照射沿着与所述第一方向交叉的第二方向延伸的线激光束的步骤;
反射所述线激光束的一部分使得所述线激光束的一部分无法到达所述基板的步骤;以及
消除被反射的所述线激光束的一部分的步骤,
消除被反射的所述线激光束的一部分的步骤包括:
通过光束消除单元的开口部使所述线激光束的一部分入射至所述光束消除单元的内部空间的步骤;
使所述线激光束的一部分在定义所述光束消除单元的所述内部空间的内表面反射多次的步骤;以及
由所述光束消除单元吸收所述线激光束的一部分的步骤,
使所述基板在所述第一方向上移动,从而增加或减少所述线激光束的一部分被反射的反射区域的面积。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的