[发明专利]显示装置的制造装置及制造方法在审
申请号: | 202110056085.5 | 申请日: | 2021-01-15 |
公开(公告)号: | CN114068626A | 公开(公告)日: | 2022-02-18 |
发明(设计)人: | 林东彦;具光骏;金桢穆;金泳植;金泂允;朴原雄 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32 |
代理公司: | 北京金宏来专利代理事务所(特殊普通合伙) 11641 | 代理人: | 朴英淑 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示装置 制造 装置 方法 | ||
本发明提供一种显示装置的制造装置及制造方法。为了提高显示装置的制造品质及产量,显示装置的制造装置,包括:工作台,支承基板;移动部,使工作台沿着第一方向移动;激光束源,射出原始激光束;光学单元,配置在原始激光束的行进路径上,并将原始激光束加工成在与第一方向交叉的第二方向上延伸的线激光束(line laser beam);光束阻断单元,能够沿着第二方向移动,并且能够阻断线激光束中的一部分;以及光束消除单元,消除被光束阻断单元阻断的线激光束的一部分。
技术领域
本发明涉及显示装置的制造装置及制造方法。
背景技术
通常,有机发光显示装置等显示装置的情况下,需要经过在基板上形成多个薄膜晶体管的过程。薄膜晶体管具备半导体层、源电极、漏电极以及栅电极等,半导体层可以包括将非晶硅层结晶化的多晶硅层。
在这种显示装置的制造过程中,为了形成多晶硅层而将非晶硅层结晶化,为此,主要利用向非晶硅层照射激光束来将其变换成多晶硅层的激光退火方法。此时,为了将大面积的非晶硅层变换成多晶硅层,利用在一方向上延伸的线激光束(line laser beam)来作为向非晶硅层照射的激光束,,在移动形成有非晶硅层的基板的同时多次照射线激光束。
但是,在利用这样形成的多晶硅层制造显示装置时,会在由显示装置呈现的图像上产生条纹污渍的问题。
发明内容
本发明用于解决包括如上所述的问题在内的多个问题,目的在于,提供一种可以提高显示装置的制造品质以及产量的显示装置的制造装置。但是,这种课题是例示,并不由此限定本发明的范围。
根据本发明的一观点,提供一种显示装置的制造装置,包括:工作台,支承基板;移动部,使所述工作台沿着第一方向移动;激光束源,射出原始激光束;光学单元,配置在所述原始激光束的行进路径上,并将所述原始激光束加工成在与所述第一方向交叉的第二方向上延伸的线激光束(line laser beam);光束阻断单元,能够沿着所述第二方向移动,并且能够阻断所述线激光束中的一部分;以及光束消除单元,消除被所述光束阻断单元阻断的所述线激光束的一部分。
根据本实施例,可以是,所述光束阻断单元包括反射所述线激光束的一部分的反射面,所述光束阻断单元包括被配置成彼此远离且彼此平行的第一光束阻断单元和第二光束阻断单元。
根据本实施例,可以是,所述光束阻断单元由多级构成,并且能够沿着所述第二方向伸缩。
根据本实施例,可以是,随着所述光束阻断单元在所述第二方向上进行直线运动,确定所述线激光束的阻断区域。
根据本实施例,可以是,所述光束消除单元包括:开口部,收纳被所述光束阻断单元的所述反射面反射的所述线激光束的一部分;以及内部空间,由多次反射被收纳的所述线激光束的一部分的内表面定义该内部空间。
根据本实施例,可以是,所述内表面包括凹凸。
根据本实施例,可以是,所述光束消除单元包括彼此对应的第一消除板和第二消除板,所述第一消除板和所述第二消除板形成锐角,使得所述第一消除板与所述第二消除板之间的空间越是朝向一方向越减少。根据本实施例,可以是,所述第一消除板和所述第二消除板的彼此相向的表面包括凹凸。
根据本实施例,可以是,还包括:冷却单元,配置在所述光束消除单元的外侧。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的