[发明专利]投射光学系统和投影仪有效
申请号: | 202110063256.7 | 申请日: | 2021-01-18 |
公开(公告)号: | CN113219771B | 公开(公告)日: | 2023-01-17 |
发明(设计)人: | 守国荣时;渡边果步 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | G03B21/14 | 分类号: | G03B21/14;G02B13/00;G02B13/16;G02B13/18;G02B7/04 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李庆泽;邓毅 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 投射 光学系统 投影仪 | ||
1.一种投射光学系统,其特征在于,其从缩小侧向放大侧依次配置有:
第1光学系统;以及
第2光学系统,其具有光学元件,配置于所述第1光学系统的放大侧,
所述第1光学系统具有第1透镜和配置于所述第1透镜的缩小侧的第2透镜,
所述光学元件具有第1透过面、配置于所述第1透过面的所述放大侧的反射面、以及配置于所述反射面的所述放大侧的第2透过面,
所述第1透镜的两面是非球面,
所述第2透镜的两面是非球面,
所述第1透镜和所述第2透镜双方在沿着所述第1光学系统的第1光轴的光轴方向上向所述光轴方向中的同一方向移动,
所述光学元件不在所述光轴方向上移动,
所述第1透镜的第1移动距离比所述第2透镜的第2移动距离长。
2.根据权利要求1所述的投射光学系统,其特征在于,
所述第1透镜在所述第1光学系统中配置于最靠所述放大侧,
所述第2透镜配置于与所述第1透镜相邻的位置。
3.一种投射光学系统,其特征在于,其从缩小侧向放大侧依次配置有:
第1光学系统;以及
第2光学系统,其具有光学元件,配置于所述第1光学系统的放大侧,
所述第1光学系统具有第1透镜和配置于所述第1透镜的缩小侧的第2透镜,
所述光学元件具有第1透过面、配置于所述第1透过面的所述放大侧的反射面、以及配置于所述反射面的所述放大侧的第2透过面,
所述光学元件在沿着所述第1光学系统的第1光轴的光轴方向上移动,
所述第1透镜和所述第2透镜不在所述光轴方向上移动。
4.根据权利要求1或3所述的投射光学系统,其特征在于,
所述反射面的第2光轴与所述第1光轴一致。
5.根据权利要求4所述的投射光学系统,其特征在于,
所述第1透过面、所述反射面和所述第2透过面分别具有以所述第2光轴为中心的旋转对称的形状。
6.根据权利要求4所述的投射光学系统,其特征在于,
所述第1透过面和所述反射面相对于所述第2光轴配置于一侧,
所述第2透过面相对于所述第2光轴配置于另一侧。
7.根据权利要求4所述的投射光学系统,其特征在于,
X轴、Y轴和Z轴是彼此正交的3轴,X轴方向是放大侧成像面的宽度方向,Y轴方向是所述放大侧成像面的上下方向,Z轴方向是与所述放大侧成像面垂直的方向,
连结上侧交点和下侧交点的光瞳在包含所述第1光轴和所述第2光轴且沿所述Y轴方向延伸的YZ平面上相对于与所述第2光轴垂直的假想垂直线倾斜,
所述上侧交点是所述第2透过面的有效光线范围内通过所述Y轴方向的上端的上端光束中的上周边光线和所述有效光线范围内通过所述Y轴方向的下端的下端光束中的上周边光线在所述YZ平面上交叉的交点,
所述下侧交点是所述上端光束中的下周边光线和所述下端光束中的下周边光线在所述YZ平面上交叉的交点。
8.根据权利要求1或3所述的投射光学系统,其特征在于,
所述反射面具有凹形状。
9.根据权利要求1或3所述的投射光学系统,其特征在于,
所述第2透过面具有向所述放大侧突出的凸形状。
10.根据权利要求1或3所述的投射光学系统,其特征在于,
所述第1透过面具有向所述缩小侧突出的凸形状。
11.根据权利要求1或3所述的投射光学系统,其特征在于,
所述反射面是非球面。
12.根据权利要求1或3所述的投射光学系统,其特征在于,
所述第1透过面是非球面。
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