[发明专利]投射光学系统和投影仪有效

专利信息
申请号: 202110063256.7 申请日: 2021-01-18
公开(公告)号: CN113219771B 公开(公告)日: 2023-01-17
发明(设计)人: 守国荣时;渡边果步 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G03B21/14 分类号: G03B21/14;G02B13/00;G02B13/16;G02B13/18;G02B7/04
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 李庆泽;邓毅
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 投射 光学系统 投影仪
【说明书】:

投射光学系统和投影仪。能够缩短投射距离。投射光学系统具有:第1光学系统;以及第2光学系统,其具有光学元件,配置于第1光学系统的放大侧。第1光学系统具有第1透镜和配置于第1透镜的缩小侧的第2透镜。光学元件具有第1透过面、配置于第1透过面的放大侧的反射面、以及配置于反射面的放大侧的第2透过面。第1透镜的两面是非球面。第2透镜的两面是非球面。光学元件、第1透镜和第2透镜中的至少一方在沿着第1光学系统的第1光轴的光轴方向上移动。

技术领域

本发明涉及投射光学系统和投影仪。

背景技术

专利文献1记载了通过投射光学系统放大投射由图像形成部形成的投射图像的投影仪。该文献的投射光学系统从缩小侧朝向放大侧依次由第1光学系统和第2光学系统构成。第1光学系统具备具有多枚透镜的折射光学系统。第2光学系统由具有凹形状的反射面的反射镜构成。图像形成部具有光源和光阀。图像形成部在投射光学系统的缩小侧成像面形成投射图像。投射光学系统在第1光学系统与反射面之间形成中间像,向配置于放大侧成像面的屏幕投射最终像。

专利文献1:日本特开2010-20344号公报

发明内容

发明要解决的课题

投射光学系统和投影仪被要求缩短投射距离。但是,在使用专利文献1的投射光学系统要进一步缩短投射距离的情况下,存在难以设计投射光学系统这样的课题。

用于解决课题的手段

为了解决上述课题,本发明的投射光学系统具有:第1光学系统;以及第2光学系统,其具有光学元件,配置于所述第1光学系统的放大侧。所述第1光学系统具有第1透镜和配置于所述第1透镜的缩小侧的第2透镜。所述光学元件具有第1透过面、配置于所述第1透过面的所述放大侧的反射面、以及配置于所述反射面的所述放大侧的第2透过面。所述第1透镜的两面是非球面。所述第2透镜的两面是非球面。所述第1透镜和所述第2透镜中的至少一方在沿着所述第1光学系统的第1光轴的光轴方向上移动。

此外,本发明的另一个投射光学系统具有:第1光学系统;以及第2光学系统,其具有光学元件,配置于所述第1光学系统的放大侧。所述第1光学系统具有第1透镜和配置于所述第1透镜的缩小侧的第2透镜。所述光学元件具有第1透过面、配置于所述第1透过面的所述放大侧的反射面、以及配置于所述反射面的所述放大侧的第2透过面。所述光学元件在沿着所述第1光学系统的第1光轴的光轴方向上移动。

并且,本发明的投影仪具有:上述投射光学系统;以及图像形成部,其在所述投射光学系统的缩小侧成像面形成投射图像。

附图说明

图1是具有投射光学系统的投影仪的概略结构图。

图2是示意地示出投射距离为基准距离的情况下的投射光学系统的整体的光线图。

图3是示意地示出投射距离为近距离的情况下的投射光学系统的整体的光线图。

图4是示意地示出投射距离为远距离的情况下的投射光学系统的整体的光线图。

图5是投射光学系统的光线图。

图6是第2光学系统的光线图。

图7是实施例1的投射光学系统的说明图。

图8是实施例2的投射光学系统的说明图。

图9是实施例3的投射光学系统的说明图。

图10是实施例4的投射光学系统的说明图。

图11是实施例5的投射光学系统的说明图。

图12是实施例6的投射光学系统的说明图。

图13是实施例7的投射光学系统的说明图。

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